スパッタリング法によるBi系高温超伝導酸化物のエピタキシャル成長に関する研究 スパッタリングホウ ニヨル Biケイ コウオンチョウデンドウ サンカブツ ノ エピタキシャル セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ

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著者

    • 毛利, 存 モウリ, ゾン

書誌事項

タイトル

スパッタリング法によるBi系高温超伝導酸化物のエピタキシャル成長に関する研究

タイトル別名

スパッタリングホウ ニヨル Biケイ コウオンチョウデンドウ サンカブツ ノ エピタキシャル セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ

著者名

毛利, 存

著者別名

モウリ, ゾン

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5580号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

12477

博士(工学)

1996-03-25

大阪大学

14401甲第05580号

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1.本研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2.本研究の目的 / p4 (0007.jp2)
  5. 1-3.本論文の構成 / p6 (0008.jp2)
  6. 参考文献 / p7 (0008.jp2)
  7. 第2章 酸化物超伝導体のエピタキシャル成長について / p9 (0009.jp2)
  8. 2-1.酸化物超伝導薄膜の結晶成長機構 / p9 (0009.jp2)
  9. 2-2.薄膜作製時に重要となる種々のパラメータ / p15 (0012.jp2)
  10. 2-3.薄膜の作製方法 / p22 (0016.jp2)
  11. 2-4.まとめ / p31 (0020.jp2)
  12. 参考文献 / p32 (0021.jp2)
  13. 第3章 直流マグネトロンスパッタ法によるBi系酸化物超伝導薄膜の作製 / p34 (0022.jp2)
  14. 3-1.直流マグネトロンスパッタ装置の構成 / p34 (0022.jp2)
  15. 3-2.生成膜の評価と分析 / p37 (0023.jp2)
  16. 3-3.まとめ / p47 (0028.jp2)
  17. 参考文献 / p48 (0029.jp2)
  18. 第4章 イオンビームスパッタによるBi系酸化物超伝導薄膜の作製 / p50 (0030.jp2)
  19. 4-1.イオンビームスパッタ成膜装置の構成 / p50 (0030.jp2)
  20. 4-2.共蒸着によるBSCCO薄膜の作製 / p55 (0032.jp2)
  21. 4-3.逐次蒸着によるBSCCO薄膜の作製 / p59 (0034.jp2)
  22. 4-4.まとめ / p66 (0038.jp2)
  23. 参考文献 / p68 (0039.jp2)
  24. 第5章 イオンビームスパッタ法で作製したBi系超伝導酸化物薄膜の相安定領域 / p70 (0040.jp2)
  25. 5-1.実験方法 / p70 (0040.jp2)
  26. 5-2.薄膜作製条件 / p71 (0040.jp2)
  27. 5-3.生成膜の評価~Bi2212組成による成膜 / p71 (0040.jp2)
  28. 5-4.生成膜の評価II~Bi2223組成での成膜 / p80 (0045.jp2)
  29. 5-5.基板温度、ガス圧一定条件下でのBi系超伝導相の生成相図 / p83 (0046.jp2)
  30. 5-6.BSCCO薄膜の相安定領域に関する考察 / p85 (0047.jp2)
  31. 5-7.まとめ / p97 (0053.jp2)
  32. 参考文献 / p98 (0054.jp2)
  33. 第6章 結論 / p101 (0055.jp2)
  34. 6-1.まとめ / p101 (0055.jp2)
  35. 6-2.結論 / p103 (0056.jp2)
  36. 6-2.結言 / p104 (0057.jp2)
  37. 謝辞 / p105 (0057.jp2)
  38. 研究業績目録 / p106 (0058.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000130472
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000954229
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000294786
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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