Optical properties and molecular orbital analyses of defects in photo-CVD SiO[2] thin films 光CDV SiO[2]膜中欠陥の光学的性質および分子軌道法による評価

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著者

    • 金島, 岳 カナシマ, タケシ

書誌事項

タイトル

Optical properties and molecular orbital analyses of defects in photo-CVD SiO[2] thin films

タイトル別名

光CDV SiO[2]膜中欠陥の光学的性質および分子軌道法による評価

著者名

金島, 岳

著者別名

カナシマ, タケシ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5631号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

14401甲第05631号

博士(工学)

大阪大学

1996-03-25

12528

目次

  1. Abstract / p1 (0003.jp2)
  2. Contents / p3 (0004.jp2)
  3. 1 Introduction / p1 (0005.jp2)
  4. 1.1 Background / p1 (0005.jp2)
  5. 1.2 Purpose of This Work / p3 (0006.jp2)
  6. Reference / p7 (0008.jp2)
  7. 2 Preparation of Photo-CVD SiO₂ Thin Film / p9 (0009.jp2)
  8. 2.1 Introduction / p9 (0009.jp2)
  9. 2.2 Preparation Method of SiO₂ Thin Film / p9 (0009.jp2)
  10. 2.3 Basic Properties of SiO₂ Thin Film / p12 (0011.jp2)
  11. Reference / p15 (0012.jp2)
  12. 3 Optical Absorption of SiO₂ Film / p17 (0013.jp2)
  13. 3.1 Introduction / p17 (0013.jp2)
  14. 3.2 Measurement Method of Absorption Spectra / p18 (0014.jp2)
  15. 3.3 Growth Condition Dependence / p19 (0014.jp2)
  16. 3.4 Annealing Effect / p23 (0016.jp2)
  17. 3.5 High Pressure Oxygen Treatment / p24 (0017.jp2)
  18. Reference / p26 (0018.jp2)
  19. 4 Photoluminescence of SiO₂ Thin Film / p27 (0018.jp2)
  20. 4.1 Introduction / p27 (0018.jp2)
  21. 4.2 Measurement Method of Photoluminescence / p27 (0018.jp2)
  22. 4.3 Photoluminescence Excited by Deuterium Lamp / p29 (0019.jp2)
  23. 4.4 Photoluminescence Excited by ArF Excimer Laser / p36 (0023.jp2)
  24. 4.5 Photoluminescence Excited by F₂ Excimer Laser / p41 (0025.jp2)
  25. 4.6 Photoluminescence Excited by N₂ Laser / p46 (0028.jp2)
  26. Reference / p48 (0029.jp2)
  27. 5 Excimer Laser Irradiation Effect / p51 (0030.jp2)
  28. 5.1 Introduction / p51 (0030.jp2)
  29. 5.2 Measurement Method of Irradiation Effect / p51 (0030.jp2)
  30. 5.3 Optical Absorption / p52 (0031.jp2)
  31. 5.4 Photoluminescence / p54 (0032.jp2)
  32. 5.5 Electron Spin Resonance / p56 (0033.jp2)
  33. Reference / p62 (0036.jp2)
  34. 6 Defect Energy Analyses by Molecular Orbital Method / p63 (0036.jp2)
  35. 6.1 Introduction / p63 (0036.jp2)
  36. 6.2 Calculation Method / p64 (0037.jp2)
  37. 6.3 SiO₂ Cluster / p64 (0037.jp2)
  38. 6.4 Oxygen-Excess Defect / p66 (0038.jp2)
  39. 6.5 Hydrogen-Related Defects / p74 (0042.jp2)
  40. 6.6 Si-Si Defect / p83 (0046.jp2)
  41. Reference / p87 (0048.jp2)
  42. 7 Conclusion / p89 (0049.jp2)
  43. A Molecular Orbital Method / p91 (0050.jp2)
  44. A.1 Introduction / p91 (0050.jp2)
  45. A.2 Schrödinger Equation / p91 (0050.jp2)
  46. A.3 Hartree-Fock Theory / p92 (0051.jp2)
  47. A.4 Ab-Initio Method / p94 (0052.jp2)
  48. A.5 Semi-Empirical Method / p95 (0052.jp2)
  49. Reference / p96 (0053.jp2)
  50. Vita / p97 (0053.jp2)
  51. Publications / p98 (0054.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000130523
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000954273
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • eng
  • NDL書誌ID
    • 000000294837
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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