電子ビームリソグラフィにおける高精度化技術に関する研究

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著者

    • 村井, 二三夫 ムライ, フミオ

書誌事項

タイトル

電子ビームリソグラフィにおける高精度化技術に関する研究

著者名

村井, 二三夫

著者別名

ムライ, フミオ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第6820号

学位授与年月日

1996-01-30

注記・抄録

博士論文

12221

博士(工学)

1996-01-30

大阪大学

14401乙第06820号

目次

  1. 要旨 / (0003.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  5. 1.2 電子ビームリソグラフィの位置付け / p2 (0006.jp2)
  6. 1.3 本研究の目的 / p4 (0007.jp2)
  7. 1.4 本論文の構成 / p5 (0007.jp2)
  8. 第2章 電子ビームリソグラフィの精度の解析 / p8 (0009.jp2)
  9. 2.1 緒言 / p8 (0009.jp2)
  10. 2.2 寸法精度に与える誤差要因 / p8 (0009.jp2)
  11. 2.3 位置精度に与える誤差要因 / p15 (0012.jp2)
  12. 2.4 本章の結言 / p18 (0014.jp2)
  13. 第3章 近接効果現象の検討-寸法精度劣化要因の検討- / p20 (0015.jp2)
  14. 3.1 緒言 / p20 (0015.jp2)
  15. 3.2 近接効果現象 / p20 (0015.jp2)
  16. 3.3 現象の解析 / p22 (0016.jp2)
  17. 3.4 近接効果パラメータの評価 / p25 (0017.jp2)
  18. 3.5 モンテカルロシミュレーションによる近接効果の評価 / p36 (0023.jp2)
  19. 3.6 本章の結言 / p40 (0025.jp2)
  20. 第4章 近接効果補正技術-寸法精度の向上- / p42 (0026.jp2)
  21. 4.1 緒言 / p42 (0026.jp2)
  22. 4.2 小領域を精密に補正する場合 / p44 (0027.jp2)
  23. 4.3 近接効果補正方式の例 / p47 (0028.jp2)
  24. 4.4 テーブル参照法による近接効果補正方式 / p55 (0032.jp2)
  25. 4.5 パターン面積密度マップを用いたハードウエア近接効果補正 / p69 (0039.jp2)
  26. 4.6 本章の結言 / p89 (0049.jp2)
  27. 第5章 電子ビームリソグラフィにおける帯電現象とその防止技術-位置精度の向上- / p92 (0051.jp2)
  28. 5.1 緒言 / p92 (0051.jp2)
  29. 5.2 電子ビーム描画における基板帯電現象 / p92 (0051.jp2)
  30. 5.3 水溶性導電ポリマーによる帯電防止法 / p106 (0058.jp2)
  31. 5.4 本章の結言 / p116 (0063.jp2)
  32. 第6章 電子ビームリソグラフィの応用(I)-フォトマスク短寸法精度の加速電圧効果- / p119 (0064.jp2)
  33. 6.1 緒言 / p119 (0064.jp2)
  34. 6.2 実験方法 / p120 (0065.jp2)
  35. 6.3 実験結果 / p120 (0065.jp2)
  36. 6.4 結果の検討 / p126 (0068.jp2)
  37. 6.5 加速電圧の選択 / p133 (0071.jp2)
  38. 6.6 本章の結言 / p134 (0072.jp2)
  39. 第7章 電子ビームリソグラフィの応用(II)-直接描画によるLSI製造プロセスへの応用- / p136 (0073.jp2)
  40. 7.1 緒言 / p136 (0073.jp2)
  41. 7.2 電子ビームレジスト / p137 (0073.jp2)
  42. 7.3 レジストプロセス / p145 (0077.jp2)
  43. 7.4 64MbDRAM研究試作の例 / p158 (0084.jp2)
  44. 7.5 本章の結言 / p165 (0087.jp2)
  45. 第8章 素子損傷の検討 / p169 (0089.jp2)
  46. 8.1 緒言 / p169 (0089.jp2)
  47. 8.2 実験方法 / p170 (0090.jp2)
  48. 8.3 実験結果 / p172 (0091.jp2)
  49. 8.4 本章の結言 / p179 (0094.jp2)
  50. 第9章 結論 / p183 (0096.jp2)
  51. 9.1 本論分のまとめ / p183 (0096.jp2)
  52. 9.2 電子ビームリングラフィの課題と今後の見通し / p185 (0097.jp2)
  53. 謝辞 / p186 (0098.jp2)
  54. 本研究に関する発表論文 / p188 (0099.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000130581
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000954329
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000294895
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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