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全反射X線分光法の開発と有機超薄膜の物性に関する研究

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著者

    • 林, 好一 ハヤシ, コウイチ

書誌事項

タイトル

全反射X線分光法の開発と有機超薄膜の物性に関する研究

著者名

林, 好一

著者別名

ハヤシ, コウイチ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第6446号

学位授与年月日

1996-03-23

注記・抄録

博士論文

本文データは平成22年度国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化実施により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである

新制・課程博士

甲第6446号

工博第1543号

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / p1 (0006.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0008.jp2)
  4. 1.1 研究の背景 / p2 (0009.jp2)
  5. 1.2 本研究の目的 / p7 (0011.jp2)
  6. 1.3 本論文の構成 / p8 (0012.jp2)
  7. 参考文献 / p9 (0012.jp2)
  8. 第2章 薄膜試料作製及び電気物性評価法 / p11 (0013.jp2)
  9. 2.1 緒言 / p12 (0014.jp2)
  10. 2.2.真空蒸着法 / p13 (0014.jp2)
  11. 2.3 導電率測定法 / p24 (0020.jp2)
  12. 2.3 昇華精製装置 / p26 (0021.jp2)
  13. 参考文献 / p30 (0023.jp2)
  14. 第3章 全反射X線分析法の原理 / p31 (0023.jp2)
  15. 3.1 緒言 / p32 (0024.jp2)
  16. 3.2 X線の全反射現象 / p33 (0024.jp2)
  17. 3.3 エネルギー分散型全反射X線回折法 / p36 (0026.jp2)
  18. 3.4 エネルギー分散型X線反射率法 / p53 (0034.jp2)
  19. 参考文献 / p63 (0039.jp2)
  20. 第4章 全反射面内X線回折測定によるn-アルカン蒸着膜の面内構造の動的評価 / p65 (0040.jp2)
  21. 4.1 緒言 / p66 (0041.jp2)
  22. 4.2 試料 / p68 (0042.jp2)
  23. 4.3 n-C₃₃H₆₈蒸着膜の構造及び分子配向 / p70 (0043.jp2)
  24. 4.4 熱処理による分子再配向過程の分子配向の動的評価 / p76 (0046.jp2)
  25. 4.5.真空中での熱処理による超薄膜分子の昇華 / p87 (0051.jp2)
  26. 4.6.蒸着膜構造の膜厚依存性 / p92 (0054.jp2)
  27. 4.7.結論 / p97 (0056.jp2)
  28. 参考文献 / p98 (0057.jp2)
  29. 第5章 全反射X線蛍光・回折同時測定による銅フタロシアニン超薄膜の分子吸着量と構造評価 / p99 (0057.jp2)
  30. 5.1 緒言 / p100 (0058.jp2)
  31. 5.2 試料 / p101 (0058.jp2)
  32. 5.3 蒸着膜分子の構造・配向評価 / p106 (0061.jp2)
  33. 5.4 蒸着過程に於ける分子吸着量、分子配向の評価 / p114 (0065.jp2)
  34. 5.5 結論 / p122 (0069.jp2)
  35. 参考文献 / p123 (0069.jp2)
  36. 第6章 X線反射率測定に於ける銅フタロシアニン超薄膜の構造評価と導電率との相関 / p125 (0070.jp2)
  37. 6.1 緒言 / p126 (0071.jp2)
  38. 6.2 AFMによるモルフォロジー観測 / p127 (0071.jp2)
  39. 6.3 CuPc蒸着膜のX線反射率測定 / p130 (0073.jp2)
  40. 6.4 導電性評価 / p137 (0076.jp2)
  41. 6.5 結論 / p145 (0080.jp2)
  42. 参考文献 / p146 (0081.jp2)
  43. 第7章 総括 / p147 (0081.jp2)
  44. Appendix 全反射X線光電子分光法による超薄膜の物性評価 / p151 (0083.jp2)
  45. A.1 緒言 / p152 (0084.jp2)
  46. A.2 全反射X線励起光電子分光法の原理 / p153 (0084.jp2)
  47. A.3 装置の構成 / p157 (0086.jp2)
  48. A.4 CuPc/Si膜のXPS測定 / p159 (0087.jp2)
  49. A.5 (Mo/B₄C)₃₀/Si積層膜のXPS測定 / p165 (0090.jp2)
  50. A.6 結論 / p171 (0093.jp2)
  51. 参考文献 / p172 (0094.jp2)
  52. 公表論文リスト / p173 (0094.jp2)
  53. 口頭発表論文リスト / p176 (0096.jp2)
  54. 謝辞 / p179 (0097.jp2)
3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000131170
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000965861
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000295484
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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