非晶質シリコンの構造緩和および結晶化に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 廣山, 雄一 ヒロヤマ, ユウイチ

書誌事項

タイトル

非晶質シリコンの構造緩和および結晶化に関する研究

著者名

廣山, 雄一

著者別名

ヒロヤマ, ユウイチ

学位授与大学

九州大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第3757号

学位授与年月日

1996-03-27

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 非晶質シリコンの構造と物性 / p5 (0009.jp2)
  5. 1.3 非晶質シリコンの構造緩和と結晶化過程 / p7 (0011.jp2)
  6. 1.4 測定法 / p9 (0013.jp2)
  7. 1.5 本研究の目的 / p23 (0027.jp2)
  8. 1.6 論文の構成 / p23 (0027.jp2)
  9. 第1章参考文献 / p24 (0028.jp2)
  10. 第2章 イオン注入a-Siの構造緩和 / p27 (0031.jp2)
  11. 2.1 序論 / p27 (0031.jp2)
  12. 2.2 実験 / p28 (0032.jp2)
  13. 2.3 結果と考察 / p35 (0039.jp2)
  14. 2.4 結論 / p52 (0056.jp2)
  15. 第2章参考文献 / p53 (0057.jp2)
  16. 第3章 気相堆積及び蒸着非晶質シリコンの構造緩和 / p54 (0058.jp2)
  17. 3.1 序論 / p54 (0058.jp2)
  18. 3.2 実験 / p54 (0058.jp2)
  19. 3.3 結果と考察 / p59 (0063.jp2)
  20. 3.4 結論 / p71 (0075.jp2)
  21. 第3章参考文献 / p72 (0076.jp2)
  22. 第4章 水素化と構造緩和 / p74 (0078.jp2)
  23. 4.1 序論 / p74 (0078.jp2)
  24. 4.2 実験 / p75 (0079.jp2)
  25. 4.3 結果と考察 / p77 (0081.jp2)
  26. 4.4 結論 / p90 (0094.jp2)
  27. 第4章参考文献 / p91 (0095.jp2)
  28. 第5章 a-Siの結晶化における空孔型欠陥の影響 / p92 (0096.jp2)
  29. 5.1 序論 / p92 (0096.jp2)
  30. 5.2 実験 / p93 (0097.jp2)
  31. 5.3 結果と考察 / p94 (0098.jp2)
  32. 5.4 結論 / p105 (0109.jp2)
  33. 第5章参考文献 / p106 (0110.jp2)
  34. 第6章 結論 / p107 (0111.jp2)
  35. 付録 / p109 (0113.jp2)
  36. 謝辞 / p113 (0117.jp2)
  37. 研究業績一覧 / p114 (0118.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000131517
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000966188
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000295831
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ