酸化物高温超伝導薄膜のサブミクロン加工とそのデバイス応用に関する研究

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著者

    • 楠, 正暢 クスノキ, マサノブ

書誌事項

タイトル

酸化物高温超伝導薄膜のサブミクロン加工とそのデバイス応用に関する研究

著者名

楠, 正暢

著者別名

クスノキ, マサノブ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第3391号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

名古屋大学博士学位論文 学位の種類:博士(工学) (課程) 学位授与年月日:平成8年3月25日

目次

  1. 目次 / p1 (0004.jp2)
  2. 1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 超伝導エレクトロニクス / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的 / p4 (0008.jp2)
  5. 1.3 本研究の概要 / p5 (0008.jp2)
  6. 2章 酸化物高温超伝導薄膜のサブミクロン加工 / p10 (0011.jp2)
  7. 2.1 はじめに / p10 (0011.jp2)
  8. 2.2 FIBリソグラフィー / p12 (0012.jp2)
  9. 2.3 酸化物高温超伝導薄膜サブミクロン加工技術 / p13 (0012.jp2)
  10. 2.4 超伝導特性 / p23 (0017.jp2)
  11. 2.5 YBCOの劣化と対策 / p28 (0020.jp2)
  12. 2.6 臨界電流密度の線幅依存症 / p33 (0022.jp2)
  13. 2.7 まとめ / p41 (0026.jp2)
  14. 3章 ボルテクスフロートランジスタ / p47 (0029.jp2)
  15. 3.1 はじめに / p47 (0029.jp2)
  16. 3.2 ボルテクスフロートランジスタの動作原理と特性 / p49 (0030.jp2)
  17. 3.3 SFFTの作成とその電気的特性 / p59 (0035.jp2)
  18. 3.4 まとめ / p75 (0043.jp2)
  19. 4章 ナノブリッジを用いたAbrikosovボルテクスフロートランジスタ / p80 (0046.jp2)
  20. 4.1 はじめに / p80 (0046.jp2)
  21. 4.2 ナノブリッジ型AVFTの作成 / p81 (0046.jp2)
  22. 4.3 ナノブリッジ型AVFTの実験結果及び考察 / p83 (0047.jp2)
  23. 4.4 ナノブリッジ型AVFTの評価 / p95 (0053.jp2)
  24. 4.5 まとめ / p108 (0060.jp2)
  25. 5章 総括 / p111 (0061.jp2)
  26. 5.1 総括 / p111 (0061.jp2)
  27. 5.2 今後の課題 / p114 (0063.jp2)
  28. 謝辞 / p117 (0064.jp2)
  29. 研究業績 / p120 (0066.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000131769
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000966415
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000296083
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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