分子イオンの固体表面における低エネルギー衝突散乱過程の研究
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Bibliographic Information
- Title
-
分子イオンの固体表面における低エネルギー衝突散乱過程の研究
- Author
-
光岡, 義仁
- Author(Another name)
-
ミツオカ, ヨシヒト
- University
-
名古屋大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
甲第3398号
- Degree year
-
1996-03-25
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 背景 / p1 (0005.jp2)
- 1.2 イオンと固体表面との衝突過程の研究 / p4 (0006.jp2)
- 1.3 本研究の目的 / p6 (0007.jp2)
- 1.4 本論文の構成 / p7 (0008.jp2)
- 参考文献 / p9 (0009.jp2)
- 第2章 表面散乱実験装置 / p11 (0010.jp2)
- 2.1 緒言 / p11 (0010.jp2)
- 2.2 装置の構成 / p11 (0010.jp2)
- 2.3 プラズマ生成部におけるプラズマ計測 / p15 (0012.jp2)
- 2.4 イオンの選択特性 / p21 (0015.jp2)
- 2.5 イオンビームの評価 / p24 (0016.jp2)
- 2.6 表面散乱検出部の中性ラジカル密度 / p32 (0020.jp2)
- 2.7 結言 / p41 (0025.jp2)
- 参考文献 / p42 (0025.jp2)
- 第3章 炭化水素プラズマ中のラジカルと金属テルルとの表面反応 / p43 (0026.jp2)
- 3.1 光記録媒体膜 / p43 (0026.jp2)
- 3.2 実験装置 / p45 (0027.jp2)
- 3.3 テルル化合物の生成 / p46 (0027.jp2)
- 3.4 考察 / p49 (0029.jp2)
- 3.5 本章のまとめ / p52 (0030.jp2)
- 参考文献 / p53 (0031.jp2)
- 第4章 炭化水素イオンの表面衝突による散乱イオン / p55 (0032.jp2)
- 4.1 緒言 / p55 (0032.jp2)
- 4.2 衝突エネルギーと散乱量 / p56 (0032.jp2)
- 4.3 散乱イオンのエネルギー分布測定 / p67 (0038.jp2)
- 4.4 イオンの残存率 / p70 (0039.jp2)
- 4.5 衝突散乱の考察 / p80 (0044.jp2)
- 4.6 まとめ / p84 (0046.jp2)
- 参考文献 / p86 (0047.jp2)
- 第5章 フッ化炭素イオンの表面衝突による散乱イオン / p87 (0048.jp2)
- 5.1 緒言 / p87 (0048.jp2)
- 5.2 衝突エネルギーと散乱量 / p87 (0048.jp2)
- 5.3 散乱イオンのエネルギー分布測定 / p91 (0050.jp2)
- 5.4 イオンの残存率 / p91 (0050.jp2)
- 5.5 ターゲット表面のXPS分析 / p99 (0054.jp2)
- 5.6 衝突散乱過程の考察 / p102 (0055.jp2)
- 5.7 本章のまとめ / p105 (0057.jp2)
- 参考文献 / p107 (0058.jp2)
- 第6章 フッ化炭素イオンの表面衝突による散乱ラジカル / p109 (0059.jp2)
- 6.1 緒言 / p109 (0059.jp2)
- 6.2 チタンゲッタリングによる背景雑音信号の抑制 / p109 (0059.jp2)
- 6.3 散乱中性ラジカルの検出法 / p115 (0062.jp2)
- 6.4 CF₃⁺衝突による散乱ラジカルの測定 / p118 (0063.jp2)
- 6.5 まとめ / p120 (0064.jp2)
- 参考文献 / p121 (0065.jp2)
- 第7章 総括 / p123 (0066.jp2)
- 7.1 本研究のまとめ / p123 (0066.jp2)
- 7.2 今後の課題 / p125 (0067.jp2)
- 謝辞 / p127 (0068.jp2)
- 本研究に関して発表した論文 / p129 (0069.jp2)