Studies on CF[x] (x=1-3) radicals in RF fluorocarbon etching plasmas RFフルオロカーボンエッチングプラズマ中のCF[x](x=1-3)ラジカルに関する研究

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著者

    • 丸山, 幸児 マルヤマ, コウジ

書誌事項

タイトル

Studies on CF[x] (x=1-3) radicals in RF fluorocarbon etching plasmas

タイトル別名

RFフルオロカーボンエッチングプラズマ中のCF[x](x=1-3)ラジカルに関する研究

著者名

丸山, 幸児

著者別名

マルヤマ, コウジ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第3454号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. Table of Contents / p1 (0003.jp2)
  2. CHAPTER1.INTRODUCTION / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 Plasma Etching in Semiconductor Device Fabrications / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 Problems in Previous Improvement of Plasma Etching / p3 (0006.jp2)
  5. 1.3 Purpose and Composition of This Thesis / p7 (0008.jp2)
  6. REFERENCES FOR CHAPTER1 / p9 (0009.jp2)
  7. CHAPTER2.PRINCIPLES AND PROCEDURES OF PLASMA DIAGNOSTICS / p11 (0010.jp2)
  8. 2.1 Diagnostic Techniques for Reactive Species in Plasma / p11 (0010.jp2)
  9. 2.2 Infrared Diode Laser Absorption Spectroscopy (IRLAS) / p12 (0011.jp2)
  10. 2.3 Optical Emission Spectroscopy(OES)and Actinometry / p34 (0022.jp2)
  11. REFERENCES FOR CHAPTER2 / p43 (0026.jp2)
  12. CHAPTER3 MEASUREMENTS OF CFx(x=1-3)RADICAL DENSITIES IN RF FLUOROCARBON PLASMAS / p45 (0027.jp2)
  13. 3.1 Introduction / p45 (0027.jp2)
  14. 3.2 Measurements of CF and CF₂ Radical Densities in RF CF₄ Plasma / p45 (0027.jp2)
  15. 3.3 Measurements of CF,CF₂,and CF₃ Radical Densities in RF CHF₃ Plasma / p55 (0032.jp2)
  16. 3.4 Summary / p74 (0042.jp2)
  17. REFERENCES FOR CHAPTER3 / p76 (0043.jp2)
  18. CHAPTER4.KINETICS OF CFx(x=1-3)RADICALS IN FLUOROCARBON PLASMAS ADDED HYDROGEN AND OXYGEN / p77 (0043.jp2)
  19. 4.1 Introduction / p77 (0043.jp2)
  20. 4.2 CF₄/H₂ Plasma / p77 (0043.jp2)
  21. 4.3 CHF₃/H₂ Plasma / p86 (0048.jp2)
  22. 4.4 CF₄/O₂ Plasma / p94 (0052.jp2)
  23. 4.5 CHF₃/O₂ Plasma / p96 (0053.jp2)
  24. 4.6 Summary / p106 (0058.jp2)
  25. Appendix / p107 (0058.jp2)
  26. Estimation of H atom density in RF CF₄/H₂ plasma / p107 (0058.jp2)
  27. Estimation of H atom density in RF CHF₃/H₂ plasma / p108 (0059.jp2)
  28. REFERENCES FOR CHAPTER4 / p110 (0060.jp2)
  29. CHAPTER5.VALIDITY OF CF AND CF₂ ACTINOMETRY IN RF CF₄ AND CF₄/H₂ PLASMAS / p113 (0061.jp2)
  30. 5.1 Introduction / p113 (0061.jp2)
  31. 5.2 CF and CF₂ Actinometry in RF CF₄ Plasma / p113 (0061.jp2)
  32. 5.3 CF and CF₂ Actinometry in RF CF₄/H₂ Plasma / p118 (0064.jp2)
  33. 5.4 Summary / p122 (0066.jp2)
  34. REFERENCES FOR CHAPTER5 / p125 (0067.jp2)
  35. CHAPTER6. CONCLUSIONS / p127 (0068.jp2)
  36. 6.1 Summary of This Study / p127 (0068.jp2)
  37. 6.2 Scope for Future Research / p128 (0069.jp2)
  38. ACKNOWLEDGMENTS / p131 (0070.jp2)
  39. LIST OF PAPERS CONCERNED WITH THIS THESIS / p132 (0071.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000131832
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000966468
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000296146
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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