非晶質シリコン薄膜の結晶核形成の動的過程に関する研究 hishoshitsu shirikon hakumaku no kessho kaku keisei no doteki katei ni kansuru kenkyu
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著者
書誌事項
- タイトル
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非晶質シリコン薄膜の結晶核形成の動的過程に関する研究
- タイトル別名
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hishoshitsu shirikon hakumaku no kessho kaku keisei no doteki katei ni kansuru kenkyu
- 著者名
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雲見, 日出也
- 著者別名
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クモミ, ヒデヤ
- 学位授与大学
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早稲田大学
- 取得学位
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博士 (理学)
- 学位授与番号
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乙第1163号
- 学位授与年月日
-
1996-02-08
注記・抄録
博士論文
制度:新 ; 文部省報告番号:乙1163号 ; 学位の種類:博士(理学) ; 授与年月日:1996/2/8 ; 早大学位記番号:新2290 ; 理工学図書館請求番号:1960
本文PDFは平成22年度国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化実施により作成された画像ファイルをPDFに変換したものである。
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目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p2 (0006.jp2)
- 1.1 研究の背景 / p2 (0006.jp2)
- 1.2 研究の概要 / p12 (0011.jp2)
- 第2章 核形成の動的過程の実験的研究方法 / p14 (0012.jp2)
- 2.1 はじめに / p14 (0012.jp2)
- 2.2 核形成の動力学的モデル / p15 (0012.jp2)
- 2.3 Zeldovich-Frenkel方程式による粒径分布の導出 / p20 (0015.jp2)
- 2.4 粒径分布を用いる核形成頻度と成長速度の測定方法 / p42 (0026.jp2)
- 2.5 第2章のまとめ / p54 (0032.jp2)
- 第3章 非晶質シリコン薄膜の結晶核形成 / p56 (0033.jp2)
- 3.1 はじめに / p56 (0033.jp2)
- 3.2 実験 / p57 (0033.jp2)
- 3.3 実験結果 / p70 (0040.jp2)
- 3.4 イオン注入による核形成の抑制機構 / p107 (0058.jp2)
- 3.5 第3章のまとめ / p118 (0064.jp2)
- 第4章 結論 / p120 (0065.jp2)
- 4.1 本研究のまとめ / p120 (0065.jp2)
- 4.2 研究の今後と残された課題 / p121 (0065.jp2)
- 謝辞 / p123 (0066.jp2)
- 参考文献 / p124 (0067.jp2)
- 著者の論文のリスト / p128 (0069.jp2)