非晶質シリコン薄膜の結晶核形成の動的過程に関する研究 hishoshitsu shirikon hakumaku no kessho kaku keisei no doteki katei ni kansuru kenkyu

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著者

    • 雲見, 日出也 クモミ, ヒデヤ

書誌事項

タイトル

非晶質シリコン薄膜の結晶核形成の動的過程に関する研究

タイトル別名

hishoshitsu shirikon hakumaku no kessho kaku keisei no doteki katei ni kansuru kenkyu

著者名

雲見, 日出也

著者別名

クモミ, ヒデヤ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

乙第1163号

学位授与年月日

1996-02-08

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:乙1163号 ; 学位の種類:博士(理学) ; 授与年月日:1996/2/8 ; 早大学位記番号:新2290 ; 理工学図書館請求番号:1960

本文PDFは平成22年度国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化実施により作成された画像ファイルをPDFに変換したものである。

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p2 (0006.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p2 (0006.jp2)
  4. 1.2 研究の概要 / p12 (0011.jp2)
  5. 第2章 核形成の動的過程の実験的研究方法 / p14 (0012.jp2)
  6. 2.1 はじめに / p14 (0012.jp2)
  7. 2.2 核形成の動力学的モデル / p15 (0012.jp2)
  8. 2.3 Zeldovich-Frenkel方程式による粒径分布の導出 / p20 (0015.jp2)
  9. 2.4 粒径分布を用いる核形成頻度と成長速度の測定方法 / p42 (0026.jp2)
  10. 2.5 第2章のまとめ / p54 (0032.jp2)
  11. 第3章 非晶質シリコン薄膜の結晶核形成 / p56 (0033.jp2)
  12. 3.1 はじめに / p56 (0033.jp2)
  13. 3.2 実験 / p57 (0033.jp2)
  14. 3.3 実験結果 / p70 (0040.jp2)
  15. 3.4 イオン注入による核形成の抑制機構 / p107 (0058.jp2)
  16. 3.5 第3章のまとめ / p118 (0064.jp2)
  17. 第4章 結論 / p120 (0065.jp2)
  18. 4.1 本研究のまとめ / p120 (0065.jp2)
  19. 4.2 研究の今後と残された課題 / p121 (0065.jp2)
  20. 謝辞 / p123 (0066.jp2)
  21. 参考文献 / p124 (0067.jp2)
  22. 著者の論文のリスト / p128 (0069.jp2)
7アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000132473
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000967089
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000296787
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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