気相ドーピング法によるシリコン超浅拡散層形成技術とその応用に関する研究 kiso dopinguho ni yoru shirikon chosen kakusanso keisei gijutsu to sono oyo ni kansuru kenkyu

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著者

    • 清田, 幸弘 キヨタ, ユキヒロ

書誌事項

タイトル

気相ドーピング法によるシリコン超浅拡散層形成技術とその応用に関する研究

タイトル別名

kiso dopinguho ni yoru shirikon chosen kakusanso keisei gijutsu to sono oyo ni kansuru kenkyu

著者名

清田, 幸弘

著者別名

キヨタ, ユキヒロ

学位授与大学

早稲田大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第1182号

学位授与年月日

1996-03-07

注記・抄録

博士論文

制度:新 ; 文部省報告番号:乙1182号 ; 学位の種類:博士(工学) ; 授与年月日:1996-03-07 ; 早大学位記番号:新2328 ; 理工学図書館請求番号:1992

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 1.緒言 / p1 (0004.jp2)
  3. 1.1 背景 / p1 (0004.jp2)
  4. 1.2 浅接合形成技術の研究動向 / p4 (0006.jp2)
  5. 1.3 従来の接合形成技術の問題点 / p8 (0008.jp2)
  6. 1.4 本論文の目的 / p11 (0009.jp2)
  7. 1.5 本論文の構成 / p11 (0009.jp2)
  8. 2.瞬間気相ドーピング法 / p12 (0010.jp2)
  9. 2.1 瞬間気相ドーピング法 / p12 (0010.jp2)
  10. 2.2 従来の固相拡散法との相違 / p14 (0011.jp2)
  11. 2.3 実験装置 / p19 (0013.jp2)
  12. 2.4 評価方法 / p27 (0017.jp2)
  13. 3.ボロンドーピング / p28 (0018.jp2)
  14. 3.1 予備実験 / p28 (0018.jp2)
  15. 3.2 800℃におけるドーピング / p40 (0024.jp2)
  16. 3.3 900℃におけるドーピング / p51 (0029.jp2)
  17. 3.4 拡散プロファイルの解析 / p59 (0033.jp2)
  18. 3.5 気相ドーピングにおけるボロンの拡散係数 / p65 (0036.jp2)
  19. 3.6 ドーピング効率 / p68 (0038.jp2)
  20. 3.7 ボロンの活性化率に関する考察 / p71 (0039.jp2)
  21. 3.8 拡散層中の不活性ボロンの挙動 / p73 (0040.jp2)
  22. 3.9 ランプ加熱装置を用いたボロンドーピング / p81 (0044.jp2)
  23. 3.10 まとめ / p85 (0046.jp2)
  24. 4.ボロン原子層ドーピング / p86 (0047.jp2)
  25. 4.1 実験方法 / p86 (0047.jp2)
  26. 4.2 ボロンプロファイル / p89 (0048.jp2)
  27. 4.3 キャップ層の結晶性の評価 / p91 (0049.jp2)
  28. 4.4 SIMS分析結果におけるボロンピークの半値幅 / p98 (0053.jp2)
  29. 4.5 吸着ボロン濃度 / p98 (0053.jp2)
  30. 4.6 まとめ / p101 (0054.jp2)
  31. 5.リンドーピング / p102 (0055.jp2)
  32. 5.1 予備実験 / p102 (0055.jp2)
  33. 5.2 900℃におけるドーピング / p106 (0057.jp2)
  34. 5.3 シミュレーションによる拡散プロファイルの解析 / p112 (0060.jp2)
  35. 5.4 ドーピング効率 / p114 (0061.jp2)
  36. 5.5 まとめ / p118 (0063.jp2)
  37. 6.デバイスへの応用 / p119 (0063.jp2)
  38. 6.1 デバイス応用に向けた基礎検討 / p119 (0063.jp2)
  39. 6.2 バイポーラトランジスタ / p122 (0065.jp2)
  40. 6.3 自己整合超高速バイポーラトランジスタ / p128 (0068.jp2)
  41. 6.4 MOSトランジスタ / p134 (0071.jp2)
  42. 6.5 まとめ / p146 (0077.jp2)
  43. 7.結言 / p147 (0077.jp2)
  44. 8.発表論文、発表 / p153 (0080.jp2)
  45. 8.1 発表論文 / p153 (0080.jp2)
  46. 8.2 解説論文 / p154 (0081.jp2)
  47. 8.3 国際学会 / p155 (0081.jp2)
  48. 8.4 国内学会 / p156 (0082.jp2)
  49. 9.参考文献 / p159 (0083.jp2)
  50. 10.謝辞 / p164 (0086.jp2)
5アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000132492
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000967108
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000296806
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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