分子動力学法による非晶質薄膜の成長シミュレーションと垂直磁気異方性の発生機構に関する研究

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著者

    • 佐藤, 厚 サトウ, アツシ

書誌事項

タイトル

分子動力学法による非晶質薄膜の成長シミュレーションと垂直磁気異方性の発生機構に関する研究

著者名

佐藤, 厚

著者別名

サトウ, アツシ

学位授与大学

日本大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第2385号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0004.jp2)
  3. 1-1 本研究の背景 / p2 (0005.jp2)
  4. 1-2 本研究の目的 / p6 (0007.jp2)
  5. 1-3 本論文の概要 / p8 (0008.jp2)
  6. 第2章 非晶質合金膜の垂直磁気異方性 / p9 (0008.jp2)
  7. 2-1 非晶質合金膜の研究背景 / p10 (0009.jp2)
  8. 2-2 垂直磁気異方性の発生機構 / p12 (0010.jp2)
  9. 第3章 計算機シミュレーションによる材料科学研究 / p19 (0013.jp2)
  10. 3-1 背景 / p20 (0014.jp2)
  11. 3-2 薄膜シミュレーションの現状 / p23 (0015.jp2)
  12. 3-3 分子動力学法 / p26 (0017.jp2)
  13. 第4章 分子動力学法による非晶質Ar膜の成膜シミュレーションと膜構造の評価 / p31 (0019.jp2)
  14. 4-1 まえがき / p32 (0020.jp2)
  15. 4-2 仮想空間 / p34 (0021.jp2)
  16. 4-3 レナード・ジョーンズポテンシャル / p38 (0023.jp2)
  17. 4-4 クエンチ / p41 (0024.jp2)
  18. 4-5 シミュレーションの計算手順 / p45 (0026.jp2)
  19. 4-6 シミュレーション膜の原子分布の評価 / p49 (0028.jp2)
  20. 4-7 膜構造評価ならびに考察 / p55 (0031.jp2)
  21. 4-8 第4章のまとめ / p67 (0037.jp2)
  22. 第5章 分子動力学法による非晶質2元合金の成膜シミュレーションと膜構造の評価 / p69 (0038.jp2)
  23. 5-1 まえがき / p70 (0039.jp2)
  24. 5-2 単原子から合金膜へのシミュレーションの改良点 / p72 (0040.jp2)
  25. 5-3 原子対分布指数η / p77 (0042.jp2)
  26. 5-4 膜構造評価ならびに考察 / p80 (0044.jp2)
  27. 5-5 第5章のまとめ / p97 (0052.jp2)
  28. 第6章 結論 / p99 (0053.jp2)
  29. 6-1 結論 / p100 (0054.jp2)
  30. 謝辞 / (0055.jp2)
  31. 参考文献 / (0056.jp2)
  32. 著者掲載論文・口頭発表一覧 / (0058.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000132611
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000967222
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000296925
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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