新規光学活性メタロセニルホスフィン配位子の合成およびそれを用いた触媒的不斉合成

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著者

    • 大野, 晃 オオノ, アキラ

書誌事項

タイトル

新規光学活性メタロセニルホスフィン配位子の合成およびそれを用いた触媒的不斉合成

著者名

大野, 晃

著者別名

オオノ, アキラ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

博士 (薬学)

学位授与番号

甲第3820号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0005.jp2)
  2. 序論 / p1 (0007.jp2)
  3. 第一章 ジシランを用いたパラジウム触媒アリル位シリル化反応 / p4 (0010.jp2)
  4. 第一節 序論 / p4 (0010.jp2)
  5. 第二節 本論 / p6 (0012.jp2)
  6. 実験の部 / p14 (0020.jp2)
  7. 第二章 新規光学活性ルテノセニルビスホスフィン配位子の合成とそれを用いた触媒的不斉合成 / p24 (0030.jp2)
  8. 第一節 序論 / p24 (0030.jp2)
  9. 第二節 合成計画 / p27 (0033.jp2)
  10. 第三節 ルテノセンカルボキサアルデヒドおよびフェロセンカルボキサアルデヒドに対する触媒的不斉アルキル化の検討 / p29 (0035.jp2)
  11. 第四節 光学活性ルテノセニルビスホスフィンEt-BPPRA,BPPRAの合成 / p32 (0038.jp2)
  12. 第五節 ルテノセニルビスホスフィンのジクロロパラジウム錯体のX線構造解析 / p35 (0041.jp2)
  13. 第六節 光学活性ルテノセニルビスホスフィンを用いた触媒的不斉合成 / p38 (0044.jp2)
  14. 実験の部 / p43 (0049.jp2)
  15. 第三章 フェロセニルメチル位上にエチル基,ブチル基を有する新規光学活性フェロセニルホスフィン配位子の合成および触媒的不斉合成 / p71 (0077.jp2)
  16. 第一節 序論 / p71 (0077.jp2)
  17. 第二節 フェロセニルメチル位上にエチル基またはブチル基を有する新規光学活性フェロセニルホスフィン配位子の合成 / p72 (0078.jp2)
  18. 第三節 フェロセニルメチル位上にエチル基を有するフェロセニルホスフィンの構造解析 / p75 (0081.jp2)
  19. 第四節 触媒的不斉合成反応への適用 / p79 (0088.jp2)
  20. 実験の部 / p86 (0095.jp2)
  21. 第四章 メタロセニルホスフィン-パラジウム錯体を用いた触媒的不斉環化反応 / p112 (0121.jp2)
  22. 第一節 序論 / p112 (0121.jp2)
  23. 第二節 反応条件の検討 / p114 (0123.jp2)
  24. 第三節 反応の立体化学に関する考察 / p127 (0136.jp2)
  25. 第四節 不斉誘導機構に関する考察 / p131 (0140.jp2)
  26. 実験の部 / p139 (0148.jp2)
  27. 結語 / p161 (0170.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000132822
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000967417
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000297136
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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