アモルファス半導体における過渡光伝導に関する研究 : 光照射および金属添加の効果

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Author

    • 井藤, 幹隆 イトウ, ミキタカ

Bibliographic Information

Title

アモルファス半導体における過渡光伝導に関する研究 : 光照射および金属添加の効果

Author

井藤, 幹隆

Author(Another name)

イトウ, ミキタカ

University

北海道大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第3866号

Degree year

1996-03-25

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 1 序論 / p4 (0006.jp2)
  3. 1.1 アモルファス半導体 / p4 (0006.jp2)
  4. 1.2 アモルファスAs₂Se₃の過渡光伝導特性 / p6 (0008.jp2)
  5. 1.3 アモルファス半導体の局在準位 / p6 (0008.jp2)
  6. 1.4 本研究の目的と本論文の構成 / p8 (0010.jp2)
  7. 2 理論的背景:アモルファス半導体の局在準位と分散型過渡光伝導 / p11 (0013.jp2)
  8. 2.1 まえおき / p11 (0013.jp2)
  9. 2.2 Time-of-Flight(TOF)法と捕獲準位制限伝導 / p11 (0013.jp2)
  10. 2.3 分散型伝導とマルチプルトラッピングモデル / p15 (0017.jp2)
  11. 2.4 過渡光電流(TPC)法 / p18 (0020.jp2)
  12. 2.5 まとめ / p19 (0021.jp2)
  13. 3 光照射効果 / p21 (0023.jp2)
  14. 3.1 まえおき / p21 (0023.jp2)
  15. 3.2 実験方法 / p21 (0023.jp2)
  16. 3.3 実験結果 / p25 (0027.jp2)
  17. 3.4 非分散型伝導に対する光照射効果 / p36 (0038.jp2)
  18. 3.5 まとめ / p41 (0043.jp2)
  19. 4 光照射効果の解析 / p42 (0044.jp2)
  20. 4.1 まえおき / p42 (0044.jp2)
  21. 4.2 マルチプルトラッピングモデル / p42 (0044.jp2)
  22. 4.3 計算機によるモデル解析 / p43 (0045.jp2)
  23. 4.4 解析結果 / p45 (0047.jp2)
  24. 4.5 非分散型伝導に対する光照射効果の解析 / p49 (0051.jp2)
  25. 4.6 カルコゲナイドガラスの光電特性に対する光照射効果 / p52 (0054.jp2)
  26. 4.7 まとめ / p59 (0061.jp2)
  27. 5 金属添加効果 / p60 (0062.jp2)
  28. 5.1 まえおき / p60 (0062.jp2)
  29. 5.2 実験方法 / p61 (0063.jp2)
  30. 5.3 実験結果 / p65 (0067.jp2)
  31. 5.4 まとめ / p69 (0071.jp2)
  32. 6 金属添加効果の解析 / p70 (0072.jp2)
  33. 6.1 まえおき / p70 (0072.jp2)
  34. 6.2 解析方法 / p71 (0073.jp2)
  35. 6.3 解析結果 / p73 (0075.jp2)
  36. 6.4 カルコゲナイドガラスの光電特性に対する金属添加効果 / p74 (0076.jp2)
  37. 6.5 まとめ / p76 (0078.jp2)
  38. 7 金属を含有した試料の構造と光学的特性 / p77 (0079.jp2)
  39. 7.1 まえおき / p77 (0079.jp2)
  40. 7.2 X線回折実験 / p77 (0079.jp2)
  41. 7.3 X線光電子分光 / p81 (0083.jp2)
  42. 7.4 光吸収係数 / p87 (0089.jp2)
  43. 7.5 まとめ / p91 (0093.jp2)
  44. 8 過渡光伝導と光誘起現象 / p92 (0094.jp2)
  45. 8.1 まえおき / p92 (0094.jp2)
  46. 8.2 実験方法 / p93 (0095.jp2)
  47. 8.3 結果 / p95 (0097.jp2)
  48. 8.4 考察 / p97 (0099.jp2)
  49. 8.5 まとめ / p99 (0101.jp2)
  50. 9 局在準位分布に対する光照射効果と金属添加効果 / p100 (0102.jp2)
  51. 9.1 まえおき / p100 (0102.jp2)
  52. 9.2 局在準位分布に対するポテンシャル揺らぎの影響 / p100 (0102.jp2)
  53. 9.3 考察 / p106 (0108.jp2)
  54. 9.4 まとめ / p111 (0113.jp2)
  55. 10 総括 / p113 (0115.jp2)
  56. 参考文献 / p115 (0117.jp2)
  57. 謝辞 / p122 (0124.jp2)
6access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000132868
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000967458
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000297182
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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