シリコン半導体素子の透過電子顕微鏡断面観察による結晶欠陥の解析・評価に関する研究

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著者

    • 青木, 茂 アオキ, シゲル

書誌事項

タイトル

シリコン半導体素子の透過電子顕微鏡断面観察による結晶欠陥の解析・評価に関する研究

著者名

青木, 茂

著者別名

アオキ, シゲル

学位授与大学

千葉工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第4号

学位授与年月日

1995-12-19

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第I部 概説 / p1 (0007.jp2)
  3. 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.1 シリコン(Si)半導体素子と微細化 / p1 (0007.jp2)
  5. 1.2 Si半導体素子における結晶欠陥と素子特性 / p1 (0007.jp2)
  6. 1.3 結晶欠陥並びに素子構造の観察法 / p2 (0008.jp2)
  7. 1.4 本研究の目的と概要 / p3 (0009.jp2)
  8. 文献 / p6 (0012.jp2)
  9. 第II部 試料作製 / p7 (0013.jp2)
  10. 第2章 透過電子顕微鏡(TEM)と断面TEM試料作製法 / p7 (0013.jp2)
  11. 2.1 TEMと像形成 / p7 (0013.jp2)
  12. 2.2 断面TEM試料の作製法 / p14 (0020.jp2)
  13. 2.3 エッチング装置による平面TEM試料作製 / p26 (0032.jp2)
  14. 2.4 結言 / p32 (0038.jp2)
  15. 文献 / p33 (0039.jp2)
  16. 第III部 応用 / p34 (0040.jp2)
  17. 第3章 Si半導体素子のTEM観察 / p34 (0040.jp2)
  18. 3.1 半導体素子の断面観察 / p34 (0040.jp2)
  19. 3.2 広領域薄膜試料による観察 / p58 (0064.jp2)
  20. 3.3 結言 / p63 (0069.jp2)
  21. 文献 / p64 (0070.jp2)
  22. 第4章 微細加工したSi結晶の酸化 / p65 (0071.jp2)
  23. 4.1 緒言 / p65 (0071.jp2)
  24. 4.2 実験 / p66 (0072.jp2)
  25. 4.3 Siの種々の形状に対する酸化 / p70 (0076.jp2)
  26. 4.4 考察 / p81 (0087.jp2)
  27. 4.5 結言 / p83 (0089.jp2)
  28. 文献 / p85 (0091.jp2)
  29. 第5章 Asイオン注入領域のSi結晶評価 / p87 (0093.jp2)
  30. 5.1 緒言 / p87 (0093.jp2)
  31. 5.2 イオン注入試料の作製 / p87 (0093.jp2)
  32. 5.3 イオン注入と損傷・再結晶化・格子欠陥 / p89 (0095.jp2)
  33. 5.4 結言 / p106 (0112.jp2)
  34. 文献 / p108 (0114.jp2)
  35. 第6章 Si結晶中のバルク型多重積層欠陥の微細構造 / p109 (0115.jp2)
  36. 6.1 緒言 / p109 (0115.jp2)
  37. 6.2 実験 / p110 (0116.jp2)
  38. 6.3 積層欠陥の種々の形態 / p110 (0116.jp2)
  39. 6.4 考察 / p115 (0121.jp2)
  40. 6.5 結言 / p118 (0124.jp2)
  41. 文献 / p119 (0125.jp2)
  42. 第7章 Si結晶中のバルク型積層欠陥の銅による形態変化 / p120 (0126.jp2)
  43. 7.1 緒言 / p120 (0126.jp2)
  44. 7.2 実験 / p120 (0126.jp2)
  45. 7.3 結果 / p121 (0127.jp2)
  46. 7.4 考察 / p128 (0134.jp2)
  47. 7.5 結言 / p130 (0136.jp2)
  48. 文献 / p132 (0138.jp2)
  49. 第8章 Si結晶中の酸素析出物の形態 / p133 (0139.jp2)
  50. 8.1 緒言 / p133 (0139.jp2)
  51. 8.2 実験 / p134 (0140.jp2)
  52. 8.3 酸素析出物の種々の形態 / p134 (0140.jp2)
  53. 8.4 考察 / p147 (0153.jp2)
  54. 8.5 結言 / p150 (0156.jp2)
  55. 文献 / p151 (0157.jp2)
  56. 第IV部 総括 / p152 (0158.jp2)
  57. 第9章 結論 / p152 (0158.jp2)
  58. 学位論文に関する発表論文 / p154 (0160.jp2)
  59. 謝辞 / p159 (0165.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000133283
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000967848
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000297597
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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