電解めっき法による機能性金属皮膜の作製に関する研究

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Author

    • 清川, 肇 キヨカワ, ハジメ

Bibliographic Information

Title

電解めっき法による機能性金属皮膜の作製に関する研究

Author

清川, 肇

Author(Another name)

キヨカワ, ハジメ

University

福井大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第4号

Degree year

1996-03-22

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 緒論 / p1 (0005.jp2)
  3. 第1章 Ni-Cu合金皮膜の電析と電気抵抗特性 / p11 (0010.jp2)
  4. 第1節 緒言 / p11 (0010.jp2)
  5. 第2節 実験方法 / p12 (0011.jp2)
  6. 第3節 実験結果および考察 / p15 (0012.jp2)
  7. 3.1 浴温度および電流密度 / p15 (0012.jp2)
  8. 3.2 pHの影響 / p20 (0015.jp2)
  9. 3.3 抵抗特性におよぼす熱処理の影響 / p25 (0017.jp2)
  10. 第4節 結言 / p34 (0022.jp2)
  11. 第2章 電解法によるNi-P合金皮膜の形態制御 / p37 (0023.jp2)
  12. 第1節 緒言 / p37 (0023.jp2)
  13. 第2節 実験方法 / p38 (0024.jp2)
  14. 第3節 実験結果および考察 / p42 (0026.jp2)
  15. 3.1 電解液流速と電流効率 / p42 (0026.jp2)
  16. 3.2 電流密度と析出速度およびP含有率 / p42 (0026.jp2)
  17. 3.3 表面形態 / p45 (0027.jp2)
  18. 第4節 結言 / p51 (0030.jp2)
  19. 第3章 Ni-P合金皮膜の高電流密度電析と電気抵抗特性 / p55 (0032.jp2)
  20. 第1節 緒言 / p55 (0032.jp2)
  21. 第2節 実験方法 / p56 (0033.jp2)
  22. 第3節 実験結果および考察 / p57 (0033.jp2)
  23. 3.1 電流密度と析出速度、電流効率およびP含有率との関係 / p57 (0033.jp2)
  24. 3.2 P含有率と電流効率との関係 / p59 (0034.jp2)
  25. 3.3 Ni-P電析皮膜のX線回折 / p59 (0034.jp2)
  26. 3.4 水素発生の電位ー電流曲線 / p63 (0036.jp2)
  27. 3.5 Ni-P電析皮膜の表面観察 / p69 (0039.jp2)
  28. 3.6 Ni-P電析皮膜の抵抗 / p69 (0039.jp2)
  29. 3.7 Ni-P電析皮膜のTCR / p74 (0042.jp2)
  30. 第4節 結言 / p74 (0042.jp2)
  31. 第4章 超撥水性Ni-P合金複合めっき皮膜の電析 / p77 (0043.jp2)
  32. 第1節 緒言 / p77 (0043.jp2)
  33. 第2節 実験方法 / p77 (0043.jp2)
  34. 2.1 超撥水性材料 / p77 (0043.jp2)
  35. 2.2 電析および分析 / p78 (0044.jp2)
  36. 2.3 接触角 / p79 (0044.jp2)
  37. 第3節 実験結果および考察 / p81 (0045.jp2)
  38. 3.1 Ni-P-TFEOの電析 / p81 (0045.jp2)
  39. 3.2 TFEO粒子の共析機構 / p88 (0049.jp2)
  40. 第4節 結言 / p99 (0054.jp2)
  41. 総括 / p103 (0056.jp2)
  42. 謝辞 / p109 (0059.jp2)
8access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000133315
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000967881
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000297629
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections
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