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レーザーアブレーションによるFe-N薄膜の作成とその磁気特性 Magnetic Properties of Fe-N Thin Films Prepared by Pulsed by Pulsed Laser Ablation

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著者

    • 吉武, 剛 ヨシタケ, ツヨシ

書誌事項

タイトル

レーザーアブレーションによるFe-N薄膜の作成とその磁気特性

タイトル別名

Magnetic Properties of Fe-N Thin Films Prepared by Pulsed by Pulsed Laser Ablation

著者名

吉武, 剛

著者別名

ヨシタケ, ツヨシ

学位授与大学

九州工業大学

取得学位

博士 (情報工学)

学位授与番号

甲第14号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 はじめに / p3 (0005.jp2)
  3. §1-1 本研究の背景 / p3 (0005.jp2)
  4. §1-2 本研究の目的 / p23 (0025.jp2)
  5. §1-3 本論文の構成 / p25 (0027.jp2)
  6. 参考文献 / p27 (0029.jp2)
  7. 第2章 窒素雰囲気中における鉄のアブレーション過程 / p32 (0034.jp2)
  8. §2-1 はじめに / p32 (0034.jp2)
  9. §2-2 プルーム観察 / p36 (0038.jp2)
  10. §2-3 放出粒子の角度分布 / p63 (0065.jp2)
  11. §2-4 レーザーアブレーションによって生ずるdroplets / p75 (0077.jp2)
  12. §2-5 第2章の結論 / p80 (0082.jp2)
  13. 参考文献 / p84 (0086.jp2)
  14. 第3章 レーザーアブレーションによるFe-N薄膜の作成と評価 / p88 (0090.jp2)
  15. §3-1 はじめに / p88 (0090.jp2)
  16. §3-2 膜の成長速度 / p91 (0093.jp2)
  17. §3-3 Fe-N薄膜の構造 / p97 (0099.jp2)
  18. §3-4 Fe-N薄膜の磁気特性 / p126 (0128.jp2)
  19. §3-5 Fe-N薄膜の窒化のメカニズム / p143 (0145.jp2)
  20. §3-6 第3章の結論 / p148 (0150.jp2)
  21. 参考文献 / p152 (0154.jp2)
  22. 第4章 結論 / p154 (0156.jp2)
  23. 謝辞 / p156 (0158.jp2)
  24. 本研究に関する発表論文 / p158 (0160.jp2)
  25. 本論文に関する口頭発表 / p159 (0161.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000133883
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973079
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000298197
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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