ガス放出スペクトルを用いた電子材料の評価に関する研究 ガス ホウシュツ スペクトル オ モチイタ デンシザイリョウ ノ ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ

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著者

    • 伊藤, 貴司 イトウ, タカシ

書誌事項

タイトル

ガス放出スペクトルを用いた電子材料の評価に関する研究

タイトル別名

ガス ホウシュツ スペクトル オ モチイタ デンシザイリョウ ノ ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ

著者名

伊藤, 貴司

著者別名

イトウ, タカシ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第6929号

学位授与年月日

1996-03-28

注記・抄録

博士論文

14401乙第06929号

博士(工学)

大阪大学

1996-03-28

12592

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1-1 本研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1-2 ガス放出スペクトル / p2 (0006.jp2)
  5. 1-3 拡散 / p3 (0006.jp2)
  6. 1-4 本研究の目的 / p9 (0009.jp2)
  7. 参考文献 / p10 (0010.jp2)
  8. 第2章 ガス放出スペクトル / p11 (0010.jp2)
  9. 2-1 はじめに / p11 (0010.jp2)
  10. 2-2 ガス放出スペクトル測定 / p11 (0010.jp2)
  11. 2-3 拡散定数および活性化エネルギーの導出 / p18 (0014.jp2)
  12. 2-4 放出ガス量の定量 / p24 (0017.jp2)
  13. 参考文献 / p27 (0018.jp2)
  14. 第3章 フラーレンC₆₀におけるインターカレーション / p28 (0019.jp2)
  15. 3-1 はじめに / p28 (0019.jp2)
  16. 3-2 C₆₀におけるトルエンのガス放出スペクトル / p31 (0020.jp2)
  17. 3-3 C₆₀中の酸素の振る舞い / p35 (0022.jp2)
  18. 3-4 C₆₀薄膜の結晶性および酸素のガス放出スペクトル / p60 (0035.jp2)
  19. 3-5 まとめ / p72 (0041.jp2)
  20. 参考文献 / p74 (0042.jp2)
  21. 第4章 硫黄ドープ水素化アモルファス・シリコンa-[化学式]:H薄膜中の水素と硫黄の熱的安定性 / p78 (0044.jp2)
  22. 4-1 はじめに / p78 (0044.jp2)
  23. 4-2 試料の作製 / p80 (0045.jp2)
  24. 4-3 a-[化学式]:H薄膜のガス放出スペクトルの硫黄含有量依存性 / p81 (0045.jp2)
  25. 4-4 a-[化学式]:H薄膜における水素および硫黄の熱的安定性 / p86 (0048.jp2)
  26. 4-5 ガス放出スペクトルを用いたa-[化学式]:H薄膜における膜中水素量の硫黄含有量依存性 / p98 (0054.jp2)
  27. 4-6 まとめ / p100 (0055.jp2)
  28. 参考文献 / p101 (0055.jp2)
  29. 第5章 CVDダイヤモンド薄膜の水素放出 / p103 (0056.jp2)
  30. 5-1 はじめに / p103 (0056.jp2)
  31. 5-2 試料の作製 / p105 (0057.jp2)
  32. 5-3 CVDダイヤモンド薄膜のガス放出スペクトル / p106 (0058.jp2)
  33. 5-4 まとめ / p118 (0064.jp2)
  34. 参考文献 / p118 (0064.jp2)
  35. 第6章 酸化物高温超伝導体のガス放出スペクトル / p120 (0065.jp2)
  36. 6-1 はじめに / p120 (0065.jp2)
  37. 6-2 試料の作製 / p123 (0066.jp2)
  38. 6-3 [化学式]および[化学式]におけるガス放出スペクトル / p126 (0068.jp2)
  39. 6-4 [化学式]における二酸化炭素の放出 / p129 (0069.jp2)
  40. 6-5 ヨウ素(I)をインターカレートしたBi₂Sr₂CaCu₂O₈におけるガス放出スペクトル / p139 (0074.jp2)
  41. 6-6 まとめ / p142 (0076.jp2)
  42. 参考文献 / p143 (0076.jp2)
  43. 第7章 総括 / p146 (0078.jp2)
  44. 謝辞 / p151 (0080.jp2)
  45. 業績リスト / p152 (0081.jp2)
5アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000133944
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000968253
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000298258
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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