有磁場低圧プラズマによるダイヤモンドの合成に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
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有磁場低圧プラズマによるダイヤモンドの合成に関する研究
- Author
-
鈴木, 準一
- Author(Another name)
-
スズキ, ジュンイチ
- University
-
大阪大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
乙第6931号
- Degree year
-
1996-03-28
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 CVDによるダイヤモンド合成の歴史 / p1 (0005.jp2)
- 1.2 CVDによるダイヤモンドの合成 / p2 (0006.jp2)
- 1.3 本研究の目的 / p8 (0009.jp2)
- 参考文献 / p11 (0010.jp2)
- 第2章 有磁場マイクロ波プラズマCVD装置 / p13 (0011.jp2)
- 2.1 緒言 / p13 (0011.jp2)
- 2.2 マイクロ波プラズマCVD装置 / p13 (0011.jp2)
- 2.3 磁場中でのマイクロ波プラズマ / p14 (0012.jp2)
- 2.4 有磁場マイクロ波プラズマCVD装置 / p20 (0015.jp2)
- 2.5 結言 / p29 (0019.jp2)
- 参考文献 / p30 (0020.jp2)
- 第3章 有磁場マイクロ波プラズマによる低圧化でのダイヤモンド薄膜の合成 / p33 (0021.jp2)
- 3.1 緒言 / p33 (0021.jp2)
- 3.2 膜の評価法 / p33 (0021.jp2)
- 3.3 10Torr以上の圧力でのCH₄/H₂系ガスによるダイヤモンド薄膜の合成 / p35 (0022.jp2)
- 3.4 低圧力領域での予備成膜実験と問題点 / p37 (0023.jp2)
- 3.5 1Torr以下の圧力領域でのダイヤモンド薄膜の合成 / p39 (0024.jp2)
- 3.6 CO/H₂による成膜のまとめ / p64 (0037.jp2)
- 3.7 結言 / p64 (0037.jp2)
- 参考文献 / p67 (0038.jp2)
- 第4章 低温成膜と大面積成膜 / p69 (0039.jp2)
- 4.1 緒言 / p69 (0039.jp2)
- 4.2 反応ガスの変更による低温成膜 / p69 (0039.jp2)
- 4.3 ECR-II型装置による大面積成膜 / p74 (0042.jp2)
- 4.4 結言 / p84 (0047.jp2)
- 参考文献 / p86 (0048.jp2)
- 第5章 工学的応用 / p87 (0048.jp2)
- 5.1 緒言 / p87 (0048.jp2)
- 5.2 アルミニウムへの成膜 / p87 (0048.jp2)
- 5.3 石英基板への成膜 / p87 (0048.jp2)
- 5.4 結言 / p89 (0049.jp2)
- 参考文献 / p90 (0050.jp2)
- 第6章 結論 / p91 (0050.jp2)
- 謝辞 / p96 (0053.jp2)
- 研究業績 / p97 (0053.jp2)
