Studies on control of reactive plasmas and its application to synthesis of diamond films in vapor phase 反応性プラズマの制御とそのダイヤモンド薄膜気相合成への応用に関する研究

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著者

    • 八田, 章光 ハッタ, アキミツ

書誌事項

タイトル

Studies on control of reactive plasmas and its application to synthesis of diamond films in vapor phase

タイトル別名

反応性プラズマの制御とそのダイヤモンド薄膜気相合成への応用に関する研究

著者名

八田, 章光

著者別名

ハッタ, アキミツ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第6935号

学位授与年月日

1996-03-28

注記・抄録

博士論文

12598

博士(工学)

1996-03-28

大阪大学

14401乙第06935号

目次

  1. Abstract / p1 (0003.jp2)
  2. Contents / p3 (0004.jp2)
  3. 1 Introduction / p1 (0006.jp2)
  4. 2 Guiding Principles for Control of the Reactive Plsama / p6 (0009.jp2)
  5. 2.1 Reaction Process in the Plasma / p7 (0009.jp2)
  6. 2.2 Spatial Control of the Reactive Plasma / p9 (0010.jp2)
  7. 2.3 Temporal Control of the Reactive Plasma / p13 (0012.jp2)
  8. 2.4 Summary / p16 (0014.jp2)
  9. 3 Production of a Laminar Plasma / p18 (0015.jp2)
  10. 3.1 Microwave Antenna for ECR Plasma Production / p19 (0015.jp2)
  11. 3.2 Production of the Laminar Plasma / p26 (0019.jp2)
  12. 3.3 Summary / p33 (0022.jp2)
  13. 4 Production and Control of a Large Diameter ECR Plasma / p35 (0023.jp2)
  14. 4.1 ECR Plasma Production in a Surface Magnetic Field / p35 (0023.jp2)
  15. 4.2 Microwave Launcher with Plasma Suppressor / p37 (0024.jp2)
  16. 4.3 ECR Plasma Production by Multi-annular Antenna / p50 (0031.jp2)
  17. 4.4 Summary / p58 (0035.jp2)
  18. 5 Analysis of Reactive Process by Pulse Modulated Gas Feeding / p60 (0036.jp2)
  19. 5.1 Experimental Apparatus and Method / p61 (0036.jp2)
  20. 5.2 Reaction Process of SiH₄ in H₂ Plasma / p63 (0037.jp2)
  21. 5.3 Reaction Processes of CH₄,C₂H₄,C₂H₆ / p80 (0046.jp2)
  22. 5.4 Summary / p86 (0049.jp2)
  23. 6 Synthesis of Diamond Films by Pulse Modulated Magnetoactive Microwave Plasma CVD / p89 (0050.jp2)
  24. 6.1 Synthesis of Diamond Firms at Low Tmeperature / p90 (0051.jp2)
  25. 6.2 Pulse Modulated Plasma CVD / p94 (0053.jp2)
  26. 6.3 Summary / p105 (0058.jp2)
  27. 7 Conclusions / p109 (0060.jp2)
  28. 7.1 Summary of This Work / p109 (0060.jp2)
  29. 7.2 Future Appications / p110 (0061.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000133950
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000968259
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298264
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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