DCアークプラズマジェットCVD法によるダイヤモンド薄膜の高速合成に関する研究 DC アークプラズマジェット CVDホウ ニヨル ダイヤモンド ハクマク ノ コウソク ゴウセイ ニカンスル ケンキュウ

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著者

    • 比嘉, 晃 ヒガ, アキラ

書誌事項

タイトル

DCアークプラズマジェットCVD法によるダイヤモンド薄膜の高速合成に関する研究

タイトル別名

DC アークプラズマジェット CVDホウ ニヨル ダイヤモンド ハクマク ノ コウソク ゴウセイ ニカンスル ケンキュウ

著者名

比嘉, 晃

著者別名

ヒガ, アキラ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第6975号

学位授与年月日

1996-06-27

注記・抄録

博士論文

12643

博士(工学)

1996-06-27

大阪大学

14401乙第06975号

目次

  1. 目次 / p3 (0005.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0008.jp2)
  3. 1.1 ダイヤモンド合成の歴史 / p1 (0008.jp2)
  4. 1.2 ダイヤモンドの気相合成 / p4 (0011.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的 / p13 (0020.jp2)
  6. 参考文献 / p14 (0021.jp2)
  7. 第2章 DCアークプラズマジェットCVD法によるダイヤモンド薄膜の合成 / p17 (0024.jp2)
  8. 2.1 緒言 / p17 (0024.jp2)
  9. 2.2 熱プラズマ / p17 (0024.jp2)
  10. 2.3 熱プラズマによるダイヤモンド薄膜の合成 / p18 (0025.jp2)
  11. 2.4 DCアークプラズマジェットCVD装置 / p20 (0027.jp2)
  12. 2.5 結言 / p27 (0034.jp2)
  13. 参考文献 / p28 (0035.jp2)
  14. 第3章 ダイヤモンド薄膜の合成における反応ガスと膜質の関係 / p29 (0036.jp2)
  15. 3.1 緒言 / p29 (0036.jp2)
  16. 3.2 実験方法 / p29 (0036.jp2)
  17. 3.3 メタン系によるダイヤモンド薄膜の合成 / p30 (0037.jp2)
  18. 3.4 メタン+二酸化炭素系によるダイヤモンド薄膜の合成 / p31 (0038.jp2)
  19. 3.5 結言 / p41 (0048.jp2)
  20. 参考文献 / p42 (0049.jp2)
  21. 第4章 ホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の成長 / p43 (0050.jp2)
  22. 4.1 緒言 / p43 (0050.jp2)
  23. 4.2 実験方法 / p44 (0051.jp2)
  24. 4.3 成膜結果 / p44 (0051.jp2)
  25. 4.4 X線二結晶法によるホモエピタキシャルダイヤモンド薄膜の結晶性の評価 / p48 (0055.jp2)
  26. 4.5 結言 / p53 (0060.jp2)
  27. 参考文献 / p55 (0062.jp2)
  28. 第5章 (100)面配向ダイヤモンド薄膜の高速合成 / p56 (0063.jp2)
  29. 5.1 緒言 / p56 (0063.jp2)
  30. 5.2 バイアス処理法による配向核の形成 / p57 (0064.jp2)
  31. 5.3 ダイヤモンド薄膜の配向成長 / p60 (0067.jp2)
  32. 5.4 高配向ダイヤモンド薄膜の高速合成 / p64 (0071.jp2)
  33. 5.5 (100)面高配向膜のカソードルミネッセンスによる結晶性の評価 / p67 (0074.jp2)
  34. 5.6 結言 / p68 (0075.jp2)
  35. 参考文献 / p70 (0077.jp2)
  36. 第6章 結論 / p71 (0078.jp2)
  37. 謝辞 / p74 (0081.jp2)
  38. 研究業績 / p76 (0083.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000133990
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973107
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000298304
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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