酸化物高温超伝導体における臨界電流密度と量子化磁束の運動に関する研究

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著者

    • 川村, 浩和 カワムラ, ヒロカズ

書誌事項

タイトル

酸化物高温超伝導体における臨界電流密度と量子化磁束の運動に関する研究

著者名

川村, 浩和

著者別名

カワムラ, ヒロカズ

学位授与大学

熊本大学

取得学位

博士 (学術)

学位授与番号

甲第65号

学位授与年月日

1996-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 緒言 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本研究の目的 / p13 (0017.jp2)
  5. 1.3 本研究の概要 / p13 (0017.jp2)
  6. 第2章 常伝導析出物の磁束ピンニング特性と臨界電流密度 / p15 (0019.jp2)
  7. 2.1 実験および解析 / p16 (0020.jp2)
  8. 2.2 実験結果および考察 / p25 (0029.jp2)
  9. 第3章 不可逆温度付近の量子化磁束の運動 / p35 (0039.jp2)
  10. 3.1 実験および解析 / p36 (0040.jp2)
  11. 3.2 実験結果および考察 / p63 (0067.jp2)
  12. 第4章 総括 / p67 (0071.jp2)
  13. 謝辞 / p69 (0073.jp2)
  14. 参考文献 / p70 (0074.jp2)
  15. 記号一覧表 / p80 (0084.jp2)
  16. 図目次 / p83 (0087.jp2)
  17. 表目次 / p85 (0089.jp2)
  18. 使用機器・使用器具一覧表 / p86 (0090.jp2)
  19. 付録A 反応性拡散法によるY系超伝導膜の作製 / p88 (0092.jp2)
  20. 付録B ピンニングポテンシャルの導出 / p91 (0095.jp2)
  21. 付録C 微小交流磁界重畳法 / p94 (0098.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134102
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973214
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298416
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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