パルスプラズマ・レーザプロセスの開発と機能性薄膜作製に関する研究

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著者

    • 須田, 義昭 スダ, ヨシアキ

書誌事項

タイトル

パルスプラズマ・レーザプロセスの開発と機能性薄膜作製に関する研究

著者名

須田, 義昭

著者別名

スダ, ヨシアキ

学位授与大学

熊本大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第37号

学位授与年月日

1996-03-12

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 本論文で使用した記号 / 記1 / (0006.jp2)
  3. 第1章 緒言 / p1 (0010.jp2)
  4. 1.1 本研究の背景と目的 / p1 (0010.jp2)
  5. 1.2 本論文の内容 / p4 (0013.jp2)
  6. 第2章 パルスアークプラズマによる無線雑音 / p8 (0017.jp2)
  7. 2.1 序論 / p8 (0017.jp2)
  8. 2.2 実験装置および方法 / p9 (0018.jp2)
  9. 2.3 実験結果および検討 / p15 (0024.jp2)
  10. 2.4 結論 / p34 (0043.jp2)
  11. 第3章 パルスアークプラズマによる表面改質 / p35 (0044.jp2)
  12. 3.1 序論 / p35 (0044.jp2)
  13. 3.2 パルスアークプラズマによるa-Siの結晶化 / p38 (0047.jp2)
  14. 3.3 パルスアークプラズマによるシリサイド形成 / p58 (0067.jp2)
  15. 3.4 結論 / p80 (0089.jp2)
  16. 第4章 パルスアーク・レーザプロセスによるY-Ba-Cu-O薄膜作製 / p81 (0090.jp2)
  17. 4.1 序論 / p81 (0090.jp2)
  18. 4.2 実験装置および方法 / p84 (0093.jp2)
  19. 4.3 実験結果および検討 / p97 (0106.jp2)
  20. 4.4 結論 / p118 (0127.jp2)
  21. 第5章 パルスYAGレーザプロセスによるcBN薄膜作製 / p119 (0128.jp2)
  22. 5.1 序論 / p119 (0128.jp2)
  23. 5.2 実験装置および方法 / p121 (0130.jp2)
  24. 5.3 実験結果および検討 / p127 (0136.jp2)
  25. 5.4 結論 / p148 (0157.jp2)
  26. 第6章 総括 / p149 (0158.jp2)
  27. 参考文献 / p153 (0162.jp2)
  28. 謝辞 / p162 (0171.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134127
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973239
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298441
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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