パルスプラズマ・レーザプロセスの開発と機能性薄膜作製に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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パルスプラズマ・レーザプロセスの開発と機能性薄膜作製に関する研究
- 著者名
-
須田, 義昭
- 著者別名
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スダ, ヨシアキ
- 学位授与大学
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熊本大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
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乙第37号
- 学位授与年月日
-
1996-03-12
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 本論文で使用した記号 / 記1 / (0006.jp2)
- 第1章 緒言 / p1 (0010.jp2)
- 1.1 本研究の背景と目的 / p1 (0010.jp2)
- 1.2 本論文の内容 / p4 (0013.jp2)
- 第2章 パルスアークプラズマによる無線雑音 / p8 (0017.jp2)
- 2.1 序論 / p8 (0017.jp2)
- 2.2 実験装置および方法 / p9 (0018.jp2)
- 2.3 実験結果および検討 / p15 (0024.jp2)
- 2.4 結論 / p34 (0043.jp2)
- 第3章 パルスアークプラズマによる表面改質 / p35 (0044.jp2)
- 3.1 序論 / p35 (0044.jp2)
- 3.2 パルスアークプラズマによるa-Siの結晶化 / p38 (0047.jp2)
- 3.3 パルスアークプラズマによるシリサイド形成 / p58 (0067.jp2)
- 3.4 結論 / p80 (0089.jp2)
- 第4章 パルスアーク･レーザプロセスによるY-Ba-Cu-O薄膜作製 / p81 (0090.jp2)
- 4.1 序論 / p81 (0090.jp2)
- 4.2 実験装置および方法 / p84 (0093.jp2)
- 4.3 実験結果および検討 / p97 (0106.jp2)
- 4.4 結論 / p118 (0127.jp2)
- 第5章 パルスYAGレーザプロセスによるcBN薄膜作製 / p119 (0128.jp2)
- 5.1 序論 / p119 (0128.jp2)
- 5.2 実験装置および方法 / p121 (0130.jp2)
- 5.3 実験結果および検討 / p127 (0136.jp2)
- 5.4 結論 / p148 (0157.jp2)
- 第6章 総括 / p149 (0158.jp2)
- 参考文献 / p153 (0162.jp2)
- 謝辞 / p162 (0171.jp2)