高温超伝導体の電界効果の研究

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著者

    • 韓, 小逸 カン, ショウイツ

書誌事項

タイトル

高温超伝導体の電界効果の研究

著者名

韓, 小逸

著者別名

カン, ショウイツ

学位授与大学

横浜国立大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第108号

学位授与年月日

1996-06-30

注記・抄録

博士論文

目次

  1. ABSTRACT / p1 (0003.jp2)
  2. 目次 / p1 (0006.jp2)
  3. 第1章 諸論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.1 本研究の背景と現状 / p1 (0007.jp2)
  5. 1.2 本研究の目的と本論文の構成 / p3 (0008.jp2)
  6. 第2章 c軸配向Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜の電界効果 / p5 (0009.jp2)
  7. 2.1 摘要 / p5 (0009.jp2)
  8. 2.2 始めに / p6 (0010.jp2)
  9. 2.3 高温酸化物超伝導薄膜の導電率のキャリア密度依存性 / p9 (0011.jp2)
  10. 2.4 c軸配向Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜の作製 / p19 (0016.jp2)
  11. 2.5 Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜チャネルを用いたMOSデバイスの電 / p26 (0020.jp2)
  12. 2.6 結び / p37 (0025.jp2)
  13. 第3章 微粒子高温酸化物超伝導薄膜の電荷量子効果の研究 / p38 (0026.jp2)
  14. 3.1 摘要 / p38 (0026.jp2)
  15. 3.2 始めに / p39 (0026.jp2)
  16. 3.3 微小トンネル接合における巨視的量子効果 / p41 (0027.jp2)
  17. 3.4 微粒子Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜の堆積 / p48 (0031.jp2)
  18. 3.6 結び / p64 (0039.jp2)
  19. 第4章 La₂₋xSrxCuO₄薄膜の異常電気容量の研究 / p65 (0039.jp2)
  20. 4.1 摘要 / p65 (0039.jp2)
  21. 4.2 始めに / p66 (0040.jp2)
  22. 4.3 La₂₋xSrxCuO₄高温超伝導体のCuO₂層内の電子状態 / p69 (0041.jp2)
  23. 4.4 La₂₋xSrxCuO₄薄膜の堆積 / p74 (0044.jp2)
  24. 4.5 La₂₋xSrxCuO₄薄膜の異常な静電容量特性 / p78 (0046.jp2)
  25. 4.6 結び / p87 (0050.jp2)
  26. 第5章 結論 / p88 (0051.jp2)
  27. 参考文献 / p90 (0052.jp2)
  28. 謝辞 / p95 (0054.jp2)
  29. 関連公表論文 / p96 (0055.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134207
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973318
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298521
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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