高温超伝導体の電界効果の研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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高温超伝導体の電界効果の研究
- 著者名
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韓, 小逸
- 著者別名
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カン, ショウイツ
- 学位授与大学
-
横浜国立大学
- 取得学位
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博士 (工学)
- 学位授与番号
-
乙第108号
- 学位授与年月日
-
1996-06-30
注記・抄録
博士論文
目次
- ABSTRACT / p1 (0003.jp2)
- 目次 / p1 (0006.jp2)
- 第1章 諸論 / p1 (0007.jp2)
- 1.1 本研究の背景と現状 / p1 (0007.jp2)
- 1.2 本研究の目的と本論文の構成 / p3 (0008.jp2)
- 第2章 c軸配向Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜の電界効果 / p5 (0009.jp2)
- 2.1 摘要 / p5 (0009.jp2)
- 2.2 始めに / p6 (0010.jp2)
- 2.3 高温酸化物超伝導薄膜の導電率のキャリア密度依存性 / p9 (0011.jp2)
- 2.4 c軸配向Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜の作製 / p19 (0016.jp2)
- 2.5 Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜チャネルを用いたMOSデバイスの電 / p26 (0020.jp2)
- 2.6 結び / p37 (0025.jp2)
- 第3章 微粒子高温酸化物超伝導薄膜の電荷量子効果の研究 / p38 (0026.jp2)
- 3.1 摘要 / p38 (0026.jp2)
- 3.2 始めに / p39 (0026.jp2)
- 3.3 微小トンネル接合における巨視的量子効果 / p41 (0027.jp2)
- 3.4 微粒子Bi₂Sr₂CaCu₂O₈薄膜の堆積 / p48 (0031.jp2)
- 3.6 結び / p64 (0039.jp2)
- 第4章 La₂₋xSrxCuO₄薄膜の異常電気容量の研究 / p65 (0039.jp2)
- 4.1 摘要 / p65 (0039.jp2)
- 4.2 始めに / p66 (0040.jp2)
- 4.3 La₂₋xSrxCuO₄高温超伝導体のCuO₂層内の電子状態 / p69 (0041.jp2)
- 4.4 La₂₋xSrxCuO₄薄膜の堆積 / p74 (0044.jp2)
- 4.5 La₂₋xSrxCuO₄薄膜の異常な静電容量特性 / p78 (0046.jp2)
- 4.6 結び / p87 (0050.jp2)
- 第5章 結論 / p88 (0051.jp2)
- 参考文献 / p90 (0052.jp2)
- 謝辞 / p95 (0054.jp2)
- 関連公表論文 / p96 (0055.jp2)