Study on morphological and electronic structures of semiconductor electrodes in electrolyte solutions 半導体/電解質溶液界面での構造および電子状態に関する研究

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著者

    • 鯉沼, 陸央 コイヌマ, ミチオ

書誌事項

タイトル

Study on morphological and electronic structures of semiconductor electrodes in electrolyte solutions

タイトル別名

半導体/電解質溶液界面での構造および電子状態に関する研究

著者名

鯉沼, 陸央

著者別名

コイヌマ, ミチオ

学位授与大学

北海道大学

取得学位

博士 (理学)

学位授与番号

甲第3948号

学位授与年月日

1996-06-28

注記・抄録

博士論文

目次

  1. CONTENTS / (0003.jp2)
  2. Aknowledgement / (0004.jp2)
  3. Chapter1 Introduction / p1 (0006.jp2)
  4. 1.1 General Introduction. / p1 (0006.jp2)
  5. 1.2 Electrochemistry in the Semiconductor Electrodes / p3 (0007.jp2)
  6. 1.3 Scanning Tunneling Microscopy(STM) / p5 (0008.jp2)
  7. 1.4 Atomic Force Microscopy(AFM) / p8 (0010.jp2)
  8. 1.5 Surface X-ray Diffraction(SXRD) / p11 (0011.jp2)
  9. 1.6 Outline of the Present Thesis / p15 (0013.jp2)
  10. Chapter2 Experimental / p19 (0016.jp2)
  11. 2.1 Chemicals / p19 (0016.jp2)
  12. 2.2 Semiconductor Electrodes / p19 (0016.jp2)
  13. 2.3 TCV Measurement / p21 (0017.jp2)
  14. 2.4 AFM Measurement / p23 (0018.jp2)
  15. 2.5 SXRD Measurement / p25 (0019.jp2)
  16. Chapter3 Tip Current Voltammetry(TCV)Study of a Variety Surface Treatment at n-GaAs(100)/Electrolyte Interface / p29 (0022.jp2)
  17. 3.1 Introduction / p29 (0022.jp2)
  18. 3.2 Results and Discussion / p30 (0023.jp2)
  19. 3.4 Conclusion / p35 (0025.jp2)
  20. Chapter4 AFM Study of Surface Structure and Electrochemical Reaction of InSe Single Crystals / p39 (0028.jp2)
  21. 4.1 Introduction / p39 (0028.jp2)
  22. 4.2 Results and Discussion / p40 (0029.jp2)
  23. 4.3 Conclusion / p47 (0032.jp2)
  24. Chapter5 AFM Study of Surface Structure and Electrochemical Reaction of GaAs(100)Single Crystals / p51 (0035.jp2)
  25. 5.1 Introduction / p51 (0035.jp2)
  26. 5.2 Results and Discussion / p53 (0036.jp2)
  27. 5.3 Conclusion / p70 (0045.jp2)
  28. Chapter6 Copper Electrochemical Deposition on GaAs(100)Surface-An ECAFM Study / p75 (0048.jp2)
  29. 6.1 Introduction / p75 (0048.jp2)
  30. 6.2 Results and Discussion / p76 (0049.jp2)
  31. 6.3 Conclusion / p90 (0056.jp2)
  32. Chapter7 In Situ Observation OF Anodic Dissolution Process of p-GaAs(OO1)in HCl Solution by SXRD / p95 (0059.jp2)
  33. 7.1 Introduction / p95 (0059.jp2)
  34. 7.2 Results and Discussion / p96 (0060.jp2)
  35. 7.3 Conclusion / p98 (0061.jp2)
  36. Chapter8 Gneral Conclusion / p100 (0062.jp2)
3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134381
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973491
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298695
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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