有機金属-クロライド気相成長法によるオプトエレクトロニクス材料のエピタキシャル成長

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著者

    • 三浦, 祥紀 ミウラ, ヨシキ

書誌事項

タイトル

有機金属-クロライド気相成長法によるオプトエレクトロニクス材料のエピタキシャル成長

著者名

三浦, 祥紀

著者別名

ミウラ, ヨシキ

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

博工甲第115号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p3 (0005.jp2)
  3. 第2章 有機金属―クロライド気相成長法の特徴 / p10 (0012.jp2)
  4. 2-1 まえがき / p10 (0012.jp2)
  5. 2-2 従来法の問題点 / p10 (0012.jp2)
  6. 2-3 有機金属―クロライド気相成長法の特徴 / p19 (0021.jp2)
  7. 第3章 コールドウォール有機金属―クロライド法によるGaP成長 / p25 (0027.jp2)
  8. 3-1 まえがき / p25 (0027.jp2)
  9. 3-2 実験方法 / p25 (0027.jp2)
  10. 3-3 熱力学的考察 / p27 (0029.jp2)
  11. 3-4 結果および考察 / p29 (0031.jp2)
  12. 3-5 まとめ / p36 (0038.jp2)
  13. 第4章 コールドウォール有機金属―クロライド法によるAlGaAs成長 / p40 (0042.jp2)
  14. 4-1 まえがき / p40 (0042.jp2)
  15. 4-2 実験方法 / p40 (0042.jp2)
  16. 4-3 結果および考察 / p43 (0045.jp2)
  17. 4-4 まとめ / p51 (0053.jp2)
  18. 第5章 ホットウォール有機金属―クロライド法によるGaAs、InGaAs成長 / p54 (0056.jp2)
  19. 5-1 まえがき / p54 (0056.jp2)
  20. 5-2 実験方法 / p55 (0057.jp2)
  21. 5-3 熱力学的考察 / p55 (0057.jp2)
  22. 5-4 結果および考察 / p62 (0064.jp2)
  23. 5-5 まとめ / p67 (0069.jp2)
  24. 第6章 ホットウォール有機金属―クロライド法によるGaN成長 / p71 (0073.jp2)
  25. 6-1 まえがき / p71 (0073.jp2)
  26. 6-2 実験方法 / p72 (0074.jp2)
  27. 6-3 結果および考察 / p75 (0077.jp2)
  28. 6-4 まとめ / p87 (0089.jp2)
  29. 第7章 結論 / p90 (0092.jp2)
  30. 参考文献 / p91 (0096.jp2)
  31. 謝辞 / p100 (0102.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134534
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973634
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298848
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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