溶剤付加CVD法による酸化物系高温超電導薄膜の合成に関する研究 Preparation of high-Tc superconducting thin films by chemical vapor deposition using addition products of β-diketonate ヨウザイ フカ CVDホウ ニヨル サンカブツケイ コウオン チョウデンドウ ハクマク ノ ゴウセイ ニカンスル ケンキュウ Tokyo University of Agriculture and Technology

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著者

    • 松野, 繁 マツノ, シゲル

書誌事項

タイトル

溶剤付加CVD法による酸化物系高温超電導薄膜の合成に関する研究

タイトル別名

Preparation of high-Tc superconducting thin films by chemical vapor deposition using addition products of β-diketonate

タイトル別名

ヨウザイ フカ CVDホウ ニヨル サンカブツケイ コウオン チョウデンドウ ハクマク ノ ゴウセイ ニカンスル ケンキュウ

タイトル別名

Tokyo University of Agriculture and Technology

著者名

松野, 繁

著者別名

マツノ, シゲル

学位授与大学

東京農工大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

博工乙第19号

学位授与年月日

1996-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / (0005.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 CVD法による酸化物系高温超電導薄膜の合成 / p2 (0007.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的と位置づけ / p3 (0007.jp2)
  6. 1.4 本論文の構成と概要 / p5 (0008.jp2)
  7. 参考文献 / p8 (0010.jp2)
  8. 第2章 溶剤付加CVD法によるY系超電導膜の合成 / (0011.jp2)
  9. 2.1 まえがき / p10 (0012.jp2)
  10. 2.2 溶剤付加CVD法によるY系超電導薄膜の合成 / p11 (0013.jp2)
  11. 2.3 高磁界下での超電導特性 / p27 (0021.jp2)
  12. 2.4 本章のまとめ / p49 (0032.jp2)
  13. 参考文献 / p50 (0032.jp2)
  14. 第3章 コールドウォール反応炉を用いたY系超電導薄膜の合成 / (0034.jp2)
  15. 3.1 まえがき / p53 (0035.jp2)
  16. 3.2 大型単結晶基板へのY系超電導薄膜の合成 / p53 (0035.jp2)
  17. 3.3 単結晶STO以外の基板へのY系超電導薄膜の合成 / p63 (0040.jp2)
  18. 3.4 本章のまとめ / p65 (0041.jp2)
  19. 参考文献 / p66 (0042.jp2)
  20. 第4章 3元同時気化CVD法によるY系超電導薄膜の合成 / (0043.jp2)
  21. 4.1 まえがき / p68 (0044.jp2)
  22. 4.2 Y系超電導薄膜の合成 / p68 (0044.jp2)
  23. 4.3 磁界異方性の小さな臨界電流特性 / p77 (0049.jp2)
  24. 4.4 超電導特性の長期安定性 / p87 (0054.jp2)
  25. 4.5 本章のまとめ / p92 (0056.jp2)
  26. 参考文献 / p93 (0057.jp2)
  27. 第5章 溶液気化CVD法による金属基板へのY系超電導薄膜の合成 / (0058.jp2)
  28. 5.1 まえがき / p95 (0059.jp2)
  29. 5.2 溶液気化CVD法 / p95 (0059.jp2)
  30. 5.3 金属基板へのY系超電導薄膜の合成 / p101 (0062.jp2)
  31. 5.4 テープ状金属基板へのY系超電導薄膜の合成 / p132 (0078.jp2)
  32. 5.5 本章のまとめ / p136 (0080.jp2)
  33. 参考文献 / p138 (0081.jp2)
  34. 第6章 CVD超電導薄膜の限流素子への応用 / (0082.jp2)
  35. 6.1 まえがき / p140 (0083.jp2)
  36. 6.2 200V級限流素子の研究開発 / p140 (0083.jp2)
  37. 6.3 STO単結晶基板の沿面破壊電圧に関する考察 / p149 (0088.jp2)
  38. 6.4 本章のまとめ / p155 (0091.jp2)
  39. 参考文献 / p156 (0091.jp2)
  40. 第7章 結論 / p157 (0093.jp2)
  41. 7.1 結論 / p157 (0093.jp2)
  42. 7.2 今後の課題と展望 / p161 (0095.jp2)
  43. 謝辞 / p162 (0096.jp2)
  44. 発表論文および参考論文 / p164 (0097.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134592
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973686
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000298906
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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