イオンビーム成膜法による酸化チタン薄膜の作製とその応用に関する基礎的研究

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著者

    • 笹瀬, 雅人 ササセ, マサト

書誌事項

タイトル

イオンビーム成膜法による酸化チタン薄膜の作製とその応用に関する基礎的研究

著者名

笹瀬, 雅人

著者別名

ササセ, マサト

学位授与大学

工学院大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第24号

学位授与年月日

1996-03-31

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 学位請求論文要旨 / (0001.jp2)
  2. 目次 / (0013.jp2)
  3. 第1章 緒言 / p1 (0016.jp2)
  4. 第2章 酸化チタンとイオンビーム成膜法 / p4 (0019.jp2)
  5. 2.1 酸化チタンの基本的特性 / p4 (0019.jp2)
  6. 2.2 イオンビームによる薄膜形成法 / p9 (0024.jp2)
  7. 2.3 酸化チタンの電気伝導 / p13 (0028.jp2)
  8. 2.4 まとめ / p15 (0030.jp2)
  9. 第3章 酸化チタンの表面電子構造に与えるイオン照射効果 / p16 (0031.jp2)
  10. 3.1 イオン照射法による物質の表面改質 / p16 (0031.jp2)
  11. 3.2 実験装置及びその方法 / p17 (0032.jp2)
  12. 3.3 酸化チタンの電気的特性及び表面化学状態に及ぼす希ガスイオン照射の効果 / p23 (0038.jp2)
  13. 3.4 酸化チタンの電気的特性と表面化学状態に及ぼす反応性イオン照射の効果 / p31 (0046.jp2)
  14. 3.5 まとめ / p40 (0055.jp2)
  15. 第4章 Ar⁺イオンアシスト反応性蒸着(IBARD)法による酸化チタン薄膜の作製とその諸特性 / p41 (0055.jp2)
  16. 4.1 Ar⁺イオンアシスト反応性蒸着(IBARD)法 / p41 (0056.jp2)
  17. 4.2 Ar⁺イオンアシスト反応性蒸着(IBARD)装置 / p44 (0059.jp2)
  18. 4.3 薄膜の特性試験法 / p55 (0070.jp2)
  19. 4.4 酸化チタン薄膜の形成 / p72 (0087.jp2)
  20. 4.5 酸化チタン薄膜の特性 / p82 (0097.jp2)
  21. 4.6 まとめ / p95 (0110.jp2)
  22. 第5章 Ar⁺イオンアシスト反応性蒸着法により作製した酸化チタン薄膜の光電流特性 / p96 (0111.jp2)
  23. 5.1 酸化チタンと光触媒作用 / p96 (0111.jp2)
  24. 5.2 実験装置と成膜条件 / p97 (0112.jp2)
  25. 5.3 酸化チタン薄膜の形成 / p102 (0117.jp2)
  26. 5.4 酸化チタン薄膜の特性 / p105 (0120.jp2)
  27. 5.5 まとめ / p120 (0135.jp2)
  28. 第6章 酸化チタン薄膜の種々の応用 / p121 (0136.jp2)
  29. 6.1 IBARD法により作製した酸化チタン薄膜の電気的応用 / p121 (0136.jp2)
  30. 6.2 IBARD法により作製した酸化チタン薄膜の光触媒膜への応用 / p121 (0136.jp2)
  31. 6.3 まとめ / p122 (0137.jp2)
  32. 第7章 結言 / p124 (0139.jp2)
  33. 謝辞 / p127 (0142.jp2)
  34. 参考文献 / p128 (0143.jp2)
  35. 研究業績 / p134 (0149.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134684
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973775
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000298998
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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