積層型偏光分離素子の作製プロセスに関する研究

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著者

    • 李, 慵基 Lee, Yong Gi

書誌事項

タイトル

積層型偏光分離素子の作製プロセスに関する研究

著者名

李, 慵基

著者別名

Lee, Yong Gi

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5632号

学位授与年月日

1996-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 緒言 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 研究の背景と目的 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 積層型偏光分離素子の構造と基本動作 / p4 (0009.jp2)
  5. 1.3 論文の構成 / p9 (0014.jp2)
  6. 第2章 プラズマCVD装置と成膜特性 / p10 (0015.jp2)
  7. 2.1 プラズマCVD法 / p10 (0015.jp2)
  8. 2.2 装置の概要 / p11 (0016.jp2)
  9. 2.3 多層膜成膜における共通パラメータの検討 / p16 (0021.jp2)
  10. 2.4 まとめ / p22 (0027.jp2)
  11. 第3章 低損失化のための成膜プロセスの最適化 / p23 (0028.jp2)
  12. 3.1 LPSの構成膜に対する要求 / p23 (0028.jp2)
  13. 3.2 パーティクルの抑制 / p25 (0030.jp2)
  14. 3.3 シミュレーションによる表面粗さの検討 / p29 (0034.jp2)
  15. 3.4 成膜条件の改善 / p38 (0043.jp2)
  16. 3.5 まとめ / p59 (0064.jp2)
  17. 第4章 積層型偏光分離素子の作製と評価 / p60 (0065.jp2)
  18. 4.1 多層膜作製と評価 / p60 (0065.jp2)
  19. 4.2 積層型偏光分離素子の作製と評価 / p69 (0074.jp2)
  20. 4.3 厚膜化による偏光分離幅の増大に関する検討 / p74 (0079.jp2)
  21. 4.4 まとめ / p80 (0085.jp2)
  22. 第5章 積層型偏光分離素子の平面光回路への応用 / p81 (0086.jp2)
  23. 5.1 LPSを応用した光スイッチの概念 / p81 (0086.jp2)
  24. 5.2 LPSを用いた平面回路での偏光分離 / p82 (0087.jp2)
  25. 5.3 まとめ / p89 (0094.jp2)
  26. 第6章 結言 / p90 (0095.jp2)
  27. 参考文献 / p92 (0097.jp2)
  28. 発表論文 / p94 (0099.jp2)
  29. 学会発表 / p94 (0099.jp2)
  30. 謝辞 / p96 (0100.jp2)
  31. 付録 プラズマCVD装置 / p97 (0102.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134882
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973962
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000299196
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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