積層型偏光分離素子の作製プロセスに関する研究
この論文にアクセスする
この論文をさがす
著者
書誌事項
- タイトル
-
積層型偏光分離素子の作製プロセスに関する研究
- 著者名
-
李, 慵基
- 著者別名
-
Lee, Yong Gi
- 学位授与大学
-
東北大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第5632号
- 学位授与年月日
-
1996-03-26
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 緒言 / p1 (0006.jp2)
- 1.1 研究の背景と目的 / p1 (0006.jp2)
- 1.2 積層型偏光分離素子の構造と基本動作 / p4 (0009.jp2)
- 1.3 論文の構成 / p9 (0014.jp2)
- 第2章 プラズマCVD装置と成膜特性 / p10 (0015.jp2)
- 2.1 プラズマCVD法 / p10 (0015.jp2)
- 2.2 装置の概要 / p11 (0016.jp2)
- 2.3 多層膜成膜における共通パラメータの検討 / p16 (0021.jp2)
- 2.4 まとめ / p22 (0027.jp2)
- 第3章 低損失化のための成膜プロセスの最適化 / p23 (0028.jp2)
- 3.1 LPSの構成膜に対する要求 / p23 (0028.jp2)
- 3.2 パーティクルの抑制 / p25 (0030.jp2)
- 3.3 シミュレーションによる表面粗さの検討 / p29 (0034.jp2)
- 3.4 成膜条件の改善 / p38 (0043.jp2)
- 3.5 まとめ / p59 (0064.jp2)
- 第4章 積層型偏光分離素子の作製と評価 / p60 (0065.jp2)
- 4.1 多層膜作製と評価 / p60 (0065.jp2)
- 4.2 積層型偏光分離素子の作製と評価 / p69 (0074.jp2)
- 4.3 厚膜化による偏光分離幅の増大に関する検討 / p74 (0079.jp2)
- 4.4 まとめ / p80 (0085.jp2)
- 第5章 積層型偏光分離素子の平面光回路への応用 / p81 (0086.jp2)
- 5.1 LPSを応用した光スイッチの概念 / p81 (0086.jp2)
- 5.2 LPSを用いた平面回路での偏光分離 / p82 (0087.jp2)
- 5.3 まとめ / p89 (0094.jp2)
- 第6章 結言 / p90 (0095.jp2)
- 参考文献 / p92 (0097.jp2)
- 発表論文 / p94 (0099.jp2)
- 学会発表 / p94 (0099.jp2)
- 謝辞 / p96 (0100.jp2)
- 付録 プラズマCVD装置 / p97 (0102.jp2)