高性能ウェットプロセスの研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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高性能ウェットプロセスの研究
- 著者名
-
国本, 文智
- 著者別名
-
クニモト, フミトモ
- 学位授与大学
-
東北大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第5639号
- 学位授与年月日
-
1996-03-26
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0004.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
- 1.1.はじめに / p1 (0006.jp2)
- 1.2.研究の背景 / p3 (0008.jp2)
- 1.3.本研究の目的 / p7 (0012.jp2)
- 1.4.本論文の構成 / p7 (0012.jp2)
- 参考文献 / p9 (0014.jp2)
- 第2章 スピンナー / p11 (0016.jp2)
- 2.1.はじめに / p11 (0016.jp2)
- 2.2.回転基板上の液の流れの解析 / p12 (0017.jp2)
- 2.3.スピン洗浄装置 / p17 (0022.jp2)
- 2.4.実験 / p19 (0024.jp2)
- 2.5.まとめ / p22 (0027.jp2)
- 参考文献 / p23 (0028.jp2)
- 第3章 スピン洗浄による金属除去 / p24 (0029.jp2)
- 3.1.はじめに / p24 (0029.jp2)
- 3.2.金属付着メカニズム / p25 (0030.jp2)
- 3.3.金属除去と付着防止 / p27 (0032.jp2)
- 3.4.実験 / p30 (0035.jp2)
- 3.5.まとめ / p37 (0042.jp2)
- 参考文献 / p39 (0044.jp2)
- 第4章 スピン洗浄による粒子除去 / p40 (0045.jp2)
- 4.1.はじめに / p40 (0045.jp2)
- 4.2.メガソニック効果 / p41 (0046.jp2)
- 4.3.実験 / p49 (0054.jp2)
- 4.4.まとめ / p54 (0059.jp2)
- 参考文献 / p55 (0060.jp2)
- 第5章 結論 / p56 (0061.jp2)
- 謝辞 / p58 (0063.jp2)
- 本研究に関する発表 / p59 (0064.jp2)