高性能ウェットプロセスの研究

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著者

    • 国本, 文智 クニモト, フミトモ

書誌事項

タイトル

高性能ウェットプロセスの研究

著者名

国本, 文智

著者別名

クニモト, フミトモ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第5639号

学位授与年月日

1996-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1.はじめに / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2.研究の背景 / p3 (0008.jp2)
  5. 1.3.本研究の目的 / p7 (0012.jp2)
  6. 1.4.本論文の構成 / p7 (0012.jp2)
  7. 参考文献 / p9 (0014.jp2)
  8. 第2章 スピンナー / p11 (0016.jp2)
  9. 2.1.はじめに / p11 (0016.jp2)
  10. 2.2.回転基板上の液の流れの解析 / p12 (0017.jp2)
  11. 2.3.スピン洗浄装置 / p17 (0022.jp2)
  12. 2.4.実験 / p19 (0024.jp2)
  13. 2.5.まとめ / p22 (0027.jp2)
  14. 参考文献 / p23 (0028.jp2)
  15. 第3章 スピン洗浄による金属除去 / p24 (0029.jp2)
  16. 3.1.はじめに / p24 (0029.jp2)
  17. 3.2.金属付着メカニズム / p25 (0030.jp2)
  18. 3.3.金属除去と付着防止 / p27 (0032.jp2)
  19. 3.4.実験 / p30 (0035.jp2)
  20. 3.5.まとめ / p37 (0042.jp2)
  21. 参考文献 / p39 (0044.jp2)
  22. 第4章 スピン洗浄による粒子除去 / p40 (0045.jp2)
  23. 4.1.はじめに / p40 (0045.jp2)
  24. 4.2.メガソニック効果 / p41 (0046.jp2)
  25. 4.3.実験 / p49 (0054.jp2)
  26. 4.4.まとめ / p54 (0059.jp2)
  27. 参考文献 / p55 (0060.jp2)
  28. 第5章 結論 / p56 (0061.jp2)
  29. 謝辞 / p58 (0063.jp2)
  30. 本研究に関する発表 / p59 (0064.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000134889
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000973969
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000299203
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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