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走査型トンネル顕微鏡による原子微細加工に関する研究

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著者

    • 馬場, 雅和 ババ, マサカズ

書誌事項

タイトル

走査型トンネル顕微鏡による原子微細加工に関する研究

著者名

馬場, 雅和

著者別名

ババ, マサカズ

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第7120号

学位授与年月日

1997-02-20

注記・抄録

博士論文

14401乙第07120号

博士(工学)

大阪大学

1997-02-20

12824

目次

  1. 目次 / p3 (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 本論文の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 本論文の目的 / p4 (0007.jp2)
  5. 1.3 本論文の構成 / p5 (0007.jp2)
  6. 参考文献 / p6 (0008.jp2)
  7. 第2章 走査型トンネル顕微鏡とSTMによる微細加工の現状 / p7 (0008.jp2)
  8. 2.1 走査型トンネル顕微鏡(STM)について / p7 (0008.jp2)
  9. 2.2 STM による原子微細加工の研究 / p10 (0010.jp2)
  10. 2.3 STM による微細加工の実験パラメータについて / p12 (0011.jp2)
  11. 参考文献 / p14 (0012.jp2)
  12. 第3章 STM-EBISED技術によるナノスケール微細加工 / p15 (0012.jp2)
  13. 3.1 緒言 / p15 (0012.jp2)
  14. 3.2 STM-EBISED 用高真空STM装置の製作 / p17 (0013.jp2)
  15. 3.3 デポジション(堆積) / p20 (0015.jp2)
  16. 3.4 エッチング / p23 (0016.jp2)
  17. 3.5 まとめ / p33 (0021.jp2)
  18. 参考文献 / p36 (0023.jp2)
  19. 第4章 Si上Cl吸着表面の観察と原子加工 / p37 (0023.jp2)
  20. 4.1 緒言 / p37 (0023.jp2)
  21. 4.2 超高真空STM原子加工装置の製作 / p38 (0024.jp2)
  22. 4.3 Si(111)7×7のSTM観察 / p40 (0025.jp2)
  23. 4.4 Si(111)7×7上の塩素吸着のSTM観察 / p44 (0027.jp2)
  24. 4.5 電界蒸発による吸着Cl原子の脱離と再吸着現象 / p48 (0029.jp2)
  25. 4.6 電界勾配効果による新しいSi表面構造の形成 / p56 (0033.jp2)
  26. 4.7 まとめ / p62 (0036.jp2)
  27. 参考文献 / p64 (0037.jp2)
  28. 第5章 Al-Cl原子間化学反応を利用したCl原子の選択脱離 / p65 (0037.jp2)
  29. 5.1 緒言 / p65 (0037.jp2)
  30. 5.2 実験方法 / p65 (0037.jp2)
  31. 5.3 Al蒸着表面のSTM観察 / p66 (0038.jp2)
  32. 5.4 蒸着Al原子と吸着Cl原子との原子間化学反応のSTM観察 / p70 (0040.jp2)
  33. 5.5 まとめ / p72 (0041.jp2)
  34. 参考文献 / p72 (0041.jp2)
  35. 第6章 結論 / p73 (0041.jp2)
  36. 謝辞 / p75 (0042.jp2)
  37. 研究業績 / p77 (0043.jp2)
  38. 著者経歴 / p83 (0046.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000150092
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001060946
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000314406
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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