【12/14(木)17時より】CiNiiの常時SSL化(HTTPS接続)について

高分子がいしの電気絶縁特性に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 近藤, 邦明 コンドウ, クニアキ

書誌事項

タイトル

高分子がいしの電気絶縁特性に関する研究

著者名

近藤, 邦明

著者別名

コンドウ, クニアキ

学位授与大学

名古屋工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第118号

学位授与年月日

1997-09-03

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0004.jp2)
  2. 第1章 緒言 / p1 (0007.jp2)
  3. 1.1 まえがき / p1 (0007.jp2)
  4. 1.2 高分子がいしの開発の経緯 / p1 (0007.jp2)
  5. 1.3 高分子がいしの構造 / p3 (0008.jp2)
  6. 1.4 本研究の背景 / p6 (0010.jp2)
  7. 1.5 本研究の内容 / p12 (0013.jp2)
  8. 第2章 高分子がいし芯材の吸湿性 / p17 (0015.jp2)
  9. 2.1 まえがき / p17 (0015.jp2)
  10. 2.2 FRPの絶縁破壊特性に及ぼす吸湿の影響 / p18 (0016.jp2)
  11. 2.3 芯材の吸湿における異方性 / p23 (0018.jp2)
  12. 2.4 むすび / p28 (0021.jp2)
  13. 第3章 高分子がいし外被の撥水性 / p30 (0022.jp2)
  14. 3.1 まえがき / p30 (0022.jp2)
  15. 3.2 シリコーンゴムの撥水性メカニズム / p30 (0022.jp2)
  16. 3.3 試験方法と手順 / p34 (0024.jp2)
  17. 3.4 むすび / p42 (0028.jp2)
  18. 第4章 高分子がいしの人工汚損試験方法 / p50 (0032.jp2)
  19. 4.1 まえがき / p50 (0032.jp2)
  20. 4.2 高分子がいしの人工汚損方法 / p50 (0032.jp2)
  21. 4.3 がいしの汚損耐電圧試験設備 / p57 (0035.jp2)
  22. 4.4 交流・直流人工汚損耐電圧特性 / p68 (0041.jp2)
  23. 4.5 むすび / p71 (0042.jp2)
  24. 第5章 高分子がいしの人工汚損耐電圧特性 / p74 (0044.jp2)
  25. 5.1 まえがき / p74 (0044.jp2)
  26. 5.2 試験方法 / p74 (0044.jp2)
  27. 5.3 霧水量の影響 / p75 (0044.jp2)
  28. 5.4 シリコーンゴム製高分子加いしの撥水性 / p77 (0045.jp2)
  29. 5.5 塩分付着密度の影響 / p83 (0048.jp2)
  30. 5.6 不溶性物質の影響 / p84 (0049.jp2)
  31. 5.7 高分子がいしの形状と汚損耐電圧特性 / p90 (0052.jp2)
  32. 5.8 むすび / p95 (0054.jp2)
  33. 第6章 結言 / p99 (0056.jp2)
  34. 6.1 高分子がいしの芯材の吸湿性 / p99 (0056.jp2)
  35. 6.2 高分子がいしの外被材料の撥水性 / p100 (0057.jp2)
  36. 6.3 高分子がいしの人工汚損試験方法 / p101 (0057.jp2)
  37. 6.4 高分子がいしの人工汚損耐電圧特性 / p102 (0058.jp2)
  38. 6.5 今後の研究課題 / p102 (0058.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000150239
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001061093
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000314553
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ