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Nb系ジョセフソン回路の高信頼化に関する研究

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著者

    • 塩田, 哲義 シオタ, テツヨシ

書誌事項

タイトル

Nb系ジョセフソン回路の高信頼化に関する研究

著者名

塩田, 哲義

著者別名

シオタ, テツヨシ

学位授与大学

名古屋大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第5242号

学位授与年月日

1997-06-04

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 はじめに / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 ジョセフソン回路の特徴 / p2 (0006.jp2)
  5. 1.3 本研究の背景 / p5 (0007.jp2)
  6. 1.4 本研究の目的 / p8 (0009.jp2)
  7. 1.5 本研究の概要 / p8 (0009.jp2)
  8. 第2章 高品質スパッタNb膜の作成 / p12 (0011.jp2)
  9. 2.1 はじめに / p12 (0011.jp2)
  10. 2.2 成膜方法と評価方法 / p12 (0011.jp2)
  11. 2.3 実験結果 / p14 (0012.jp2)
  12. 2.4 成膜装置依存性 / p24 (0017.jp2)
  13. 2.5 まとめ / p26 (0018.jp2)
  14. 第3章 Nb配線の高信頼化技術 / p28 (0019.jp2)
  15. 3.1 はじめに / p28 (0019.jp2)
  16. 3.2 熱処理による配線の特性劣化 / p28 (0019.jp2)
  17. 3.3 配線劣化の原因 / p32 (0021.jp2)
  18. 3.4 プラズマ窒化処理による酸素拡散の抑止 / p35 (0022.jp2)
  19. 3.5 まとめ / p54 (0032.jp2)
  20. 第4章 ジョセフソン接合の高信頼化技術 / p57 (0033.jp2)
  21. 4.1 はじめに / p57 (0033.jp2)
  22. 4.2 上部Nb電極表面のプラズマ窒化処理による効果 / p58 (0034.jp2)
  23. 4.3 AINxバリア接合 / p65 (0037.jp2)
  24. 4.4 接合形成後のプラズマ窒化処理 / p73 (0041.jp2)
  25. 4.5 まとめ / p73 (0041.jp2)
  26. 第5章 抵抗素子の高信頼化技術 / p76 (0043.jp2)
  27. 5.1 はじめに / p76 (0043.jp2)
  28. 5.2 Zr抵抗の作成方法とシート抵抗の測定 / p77 (0043.jp2)
  29. 5.3 抵抗の熱処理耐性 / p79 (0044.jp2)
  30. 5.4 Tiバリアによる熱処理耐性の改善 / p83 (0046.jp2)
  31. 5.5 ジョセフソン回路への適用性 / p87 (0048.jp2)
  32. 5.6 まとめ / p89 (0049.jp2)
  33. 第6章 回路構造における高信・高集積化技術 / p91 (0050.jp2)
  34. 6.1 はじめに / p91 (0050.jp2)
  35. 6.2 バイアス電流の電源線幅依存性 / p91 (0050.jp2)
  36. 6.3 電源線が発生する磁場の影響 / p95 (0052.jp2)
  37. 6.4 接地面下側電源線 / p98 (0054.jp2)
  38. 6.5 まとめ / p108 (0059.jp2)
  39. 第7章 結論 / p110 (0060.jp2)
  40. 謝辞 / p112 (0061.jp2)
5アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000151198
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001068148
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000315512
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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