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Control of physical properties of high-quality a-SiC:H films and its application to photovoltaic devices 高品質水素化アモルファスシリコンカーボンの物性制御と光起電力デバイスへの応用

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著者

    • 藤井, 正 フジイ, タダシ

書誌事項

タイトル

Control of physical properties of high-quality a-SiC:H films and its application to photovoltaic devices

タイトル別名

高品質水素化アモルファスシリコンカーボンの物性制御と光起電力デバイスへの応用

著者名

藤井, 正

著者別名

フジイ, タダシ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第7011号

学位授与年月日

1997-09-24

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. Abstract / p1 (0004.jp2)
  3. Acknowledgements / p3 (0005.jp2)
  4. Contents / p5 (0006.jp2)
  5. 1 Introduction / p1 (0008.jp2)
  6. 1.1 Background / p1 (0008.jp2)
  7. 1.2 Outline of Thesis / p5 (0010.jp2)
  8. References / p7 (0011.jp2)
  9. 2 Deposition of [化学式]:H Films by Vacuum Ultraviolet Photo-CVD / p11 (0013.jp2)
  10. 2.1 Introduction / p11 (0013.jp2)
  11. 2.2 VUV Photo-CVD Equipment / p14 (0015.jp2)
  12. 2.3 Film Deposition / p17 (0016.jp2)
  13. 2.4 Enhancement of VUV Light Source Intensity / p21 (0018.jp2)
  14. 2.5 Summary / p28 (0022.jp2)
  15. References / p29 (0022.jp2)
  16. 3 Characterization of [化学式]:H Films Deposited by Vacuum Ultraviolet Photo-CVD / p31 (0024.jp2)
  17. 3.1 Introduction / p31 (0024.jp2)
  18. 3.2 Optical and Electrical Properties / p31 (0024.jp2)
  19. 3.3 Structure Analysis / p40 (0029.jp2)
  20. 3.4 P-type Doping / p47 (0032.jp2)
  21. 3.5 Summary / p54 (0036.jp2)
  22. References / p54 (0036.jp2)
  23. 4 Hybrid-Plasma CVD / p57 (0037.jp2)
  24. 4.1 Introduction / p57 (0037.jp2)
  25. 4.2 Decomposition Rates of SiH₄ and CH₄ / p58 (0038.jp2)
  26. 4.3 New Deposition Process of Hybrid-Plasma CVD / p59 (0038.jp2)
  27. 4.4 CH₃ Radical Generation / p62 (0040.jp2)
  28. 4.5 Summary / p69 (0043.jp2)
  29. References / p69 (0043.jp2)
  30. 5 Characterization of [化学式]:H Films Deposited by Hybrid-Plasma CVD / p71 (0044.jp2)
  31. 5.1 Introduction / p71 (0044.jp2)
  32. 5.2 Film Deposition / p72 (0045.jp2)
  33. 5.3 Electrical and Photoelectric Properties / p74 (0046.jp2)
  34. 5.4 Structure Analysis / p76 (0047.jp2)
  35. 5.5 P-type Doping / p85 (0051.jp2)
  36. 5.6 Summary / p93 (0055.jp2)
  37. References / p97 (0057.jp2)
  38. 6 Photovoltaic Application of [化学式]:H Films Deposited by Hybrid-Plasma CVD / p99 (0058.jp2)
  39. 6.1 Introduction / p99 (0058.jp2)
  40. 6.2 Fabrication of Photovoltaic Device Structure / p101 (0059.jp2)
  41. 6.3 Junction Properties / p110 (0064.jp2)
  42. 6.4 Characterization of Photovoltaic Device / p114 (0066.jp2)
  43. 6.5 Summary / p122 (0070.jp2)
  44. References / p126 (0072.jp2)
  45. 7 Conclusions / p129 (0073.jp2)
  46. 7.1 Conclusions / p129 (0073.jp2)
  47. 7.2 For the Future Work / p131 (0074.jp2)
  48. References / p132 (0075.jp2)
  49. List of Publications / p133 (0075.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000151563
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001068508
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000315877
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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