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パルスラジオリシス・マイクロ波加熱空洞法による低エネルギー電子付着過程の研究

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著者

    • 砂川, 武義 スナガワ, タケヨシ

書誌事項

タイトル

パルスラジオリシス・マイクロ波加熱空洞法による低エネルギー電子付着過程の研究

著者名

砂川, 武義

著者別名

スナガワ, タケヨシ

学位授与大学

福井工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第3号

学位授与年月日

1997-03-15

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0002.jp2)
  2. 第一章 序論 / p1 (0003.jp2)
  3. 第一節 弱電離プラズマ内の反応素過程の研究意義 / p1 (0003.jp2)
  4. 第二節 電子付着過程の様式 / p3 (0004.jp2)
  5. 第三節 研究目的 / p4 (0005.jp2)
  6. 第四節 低エネルギー領域の電子付着反応の研究の現状 / p5 (0005.jp2)
  7. 第二章 パルスラジオリシス・マイクロ波加熱空洞法 / p7 (0006.jp2)
  8. 第一節 マイクロ波空洞法の原理 / p7 (0006.jp2)
  9. 第二節 実験装置 / p9 (0007.jp2)
  10. 第三節 気体試料 / p15 (0010.jp2)
  11. 第四節 パルスラジオリシス・マイクロ波加熱空洞法 / p19 (0012.jp2)
  12. 第五節 データ解析 / p34 (0020.jp2)
  13. 第三章 結果と考察 / p37 (0021.jp2)
  14. 第一節 緒言 / p37 (0021.jp2)
  15. 第二節 ハロゲン化メタンの電子付着 / p39 (0022.jp2)
  16. 第三節 臭化エタン・エチレンの電子付着 / p66 (0036.jp2)
  17. 第四節 ヨウ化エタン・プロパンの電子付着 / p77 (0041.jp2)
  18. 第五節 ハロゲン化ベンゼン・パーフルオロハロゲン化ベンゼンの電子付着 / p83 (0044.jp2)
  19. 第六節 各種ハロゲン化合物の低エネルギー電子付着反応における媒体温度効果 / p98 (0052.jp2)
  20. 第七節 ハロゲン化合物の電子付着断面積と負イオンポテンシャルエネルギー曲線 / p109 (0057.jp2)
  21. 第四章 総括 / p129 (0067.jp2)
  22. 引用文献 / p131 (0068.jp2)
  23. 発表論文目録 / p137 (0071.jp2)
  24. 講演発表 / p139 (0072.jp2)
  25. 謝辞 / p145 (0075.jp2)
5アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000151680
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001068623
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000315994
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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