電子シャワー、スパッタ、真空アーク法による窒化アルミニウム薄膜の作製と配向性に関する研究
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書誌事項
- タイトル
-
電子シャワー、スパッタ、真空アーク法による窒化アルミニウム薄膜の作製と配向性に関する研究
- 著者名
-
石原, 正統
- 著者別名
-
イシハラ, マサトウ
- 学位授与大学
-
東京理科大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
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甲第320号
- 学位授与年月日
-
1997-03-20
注記・抄録
博士論文
目次
- 【目次】 / p1 (0003.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0005.jp2)
- 1.1 本研究の背景 / p2 (0006.jp2)
- 1.2 現在まで行われた研究 / p4 (0007.jp2)
- 1.3 本研究の目的 / p10 (0010.jp2)
- 1.4 本研究の概要 / p10 (0010.jp2)
- 1.5 参考文献 / p11 (0010.jp2)
- 第2章 電子シャワー法によるAIN薄膜の作製と評価 / p25 (0017.jp2)
- 2.1 緒言 / p26 (0018.jp2)
- 2.2 実験方法 / p27 (0018.jp2)
- 2.3 結果および考察 / p28 (0019.jp2)
- 2.4 小括 / p33 (0021.jp2)
- 2.5 参考文献 / p33 (0021.jp2)
- 第3章 電子シャワー法における基板バイアスの効果 / p45 (0027.jp2)
- 3.1 緒言 / p46 (0028.jp2)
- 3.2 実験方法 / p47 (0028.jp2)
- 3.3 結果および考察 / p47 (0028.jp2)
- 3.4 小括 / p51 (0030.jp2)
- 3.5 参考文献 / p52 (0031.jp2)
- 第4章 スパッタ法および真空アーク法によるAIN薄膜の作製 / p67 (0038.jp2)
- 4.1 緒言 / p68 (0039.jp2)
- 4.2 実験方法 / p69 (0039.jp2)
- 4.3 結果と考察 / p69 (0039.jp2)
- 4.4 小括 / p72 (0041.jp2)
- 4.5 参考文献 / p73 (0041.jp2)
- 第5章 AIN薄膜の成膜条件と配向性の関係 / p85 (0047.jp2)
- 5.1 緒言 / p86 (0048.jp2)
- 5.2 実験方法 / p86 (0048.jp2)
- 5.3 結果および考察 / p87 (0048.jp2)
- 5.4 小括 / p90 (0050.jp2)
- 5.5 参考文献 / p90 (0050.jp2)
- 第6章 スパッタ法によるAIN薄膜の配向性に対するPBC理論の応用 / p99 (0054.jp2)
- 6.1 緒言 / p100 (0055.jp2)
- 6.2 面の成長速度 / p101 (0055.jp2)
- 6.3 AIN薄膜への応用 / p107 (0058.jp2)
- 6.4 実験結果との比較 / p109 (0059.jp2)
- 6.5 小括 / p110 (0060.jp2)
- 6.6 参考文献 / p111 (0060.jp2)
- 第7章 総括 / p121 (0065.jp2)
- 謝辞 / p126 (0068.jp2)
- 研究業績 / p127 (0068.jp2)