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真空蒸着金属薄膜の機械的性質に関する研究

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著者

    • 菊地, 章 キクチ, アキラ

書誌事項

タイトル

真空蒸着金属薄膜の機械的性質に関する研究

著者名

菊地, 章

著者別名

キクチ, アキラ

学位授与大学

豊橋技術科学大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

乙第100号

学位授与年月日

1997-12-17

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文要旨 / p1 (0003.jp2)
  2. 目次 / p1 (0006.jp2)
  3. 第I部 序論 / p1 (0008.jp2)
  4. 1.1 薄膜の機械的性質の重要性と現状 / p1 (0008.jp2)
  5. 1.2 本研究の動機と目的 / p4 (0010.jp2)
  6. 1.3 本論文の構成 / p5 (0010.jp2)
  7. 参考文献 / p6 (0011.jp2)
  8. 第II部 測定機 / p8 (0012.jp2)
  9. 2.1 引き倒し試験機 / p8 (0012.jp2)
  10. 2.2 微小摩擦引っ搔き試験機(Micro-Tribometer) / p10 (0013.jp2)
  11. 2.3 内部応力測定機 / p15 (0015.jp2)
  12. 参考文献 / p17 (0016.jp2)
  13. 第III部 付着力、摩擦係数 / p18 (0017.jp2)
  14. 3.1 試料作製 / p18 (0017.jp2)
  15. 3.2 付着力の測定 / p23 (0019.jp2)
  16. 3.3 摩擦係数の測定 / p55 (0035.jp2)
  17. 参考文献 / p62 (0039.jp2)
  18. 第IV部 付着力測定値のばらつき / p65 (0040.jp2)
  19. 4.1 ワイブル分布 / p65 (0040.jp2)
  20. 4.2 ワイブル分布関数による蒸着膜の付着力の解析 / p68 (0042.jp2)
  21. 4.3 付着分布関数 / p73 (0044.jp2)
  22. 4.4 まとめ / p74 (0045.jp2)
  23. 参考文献 / p74 (0045.jp2)
  24. 第V部 実用材料への応用 / p76 (0046.jp2)
  25. 5.1.1 光学素子用膜 / p76 (0046.jp2)
  26. 5.1.2 磁性材料膜 / p80 (0048.jp2)
  27. 5.1.3 高分子膜(液晶関連) / p82 (0049.jp2)
  28. 5.1.4 その他 / p82 (0049.jp2)
  29. 5.1.5 まとめ / p84 (0050.jp2)
  30. 参考文献 / p84 (0050.jp2)
  31. 第VI部 内部応力 / p85 (0050.jp2)
  32. 6.1 内部応力 / p90 (0053.jp2)
  33. 6.2 クラックの発生 / p92 (0054.jp2)
  34. 6.3 まとめ / p93 (0054.jp2)
  35. 参考文献 / p93 (0054.jp2)
  36. 第VII部 結論 / p95 (0055.jp2)
  37. 付録 / p98 (0057.jp2)
  38. 1.引き倒し法による付着力の計算 / p98 (0057.jp2)
  39. 2.引っ搔き法による付着力の計算 / p106 (0061.jp2)
  40. 3.ワイブル分布 / p107 (0061.jp2)
  41. 4.接触角の測定 / p109 (0062.jp2)
  42. 謝辞 / p110 (0063.jp2)
  43. 研究業績 / p111 (0063.jp2)
  44. [A]原著論文 / p111 (0063.jp2)
  45. [B]速報論文 / p112 (0064.jp2)
  46. [C]著書 / p113 (0064.jp2)
  47. [D]研究紀要等報告書 / p113 (0064.jp2)
  48. [E]口頭発表 / p114 (0065.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000152985
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001087062
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000317299
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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