真空蒸着金属薄膜の機械的性質に関する研究
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Bibliographic Information
- Title
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真空蒸着金属薄膜の機械的性質に関する研究
- Author
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菊地, 章
- Author(Another name)
-
キクチ, アキラ
- University
-
豊橋技術科学大学
- Types of degree
-
博士 (工学)
- Grant ID
-
乙第100号
- Degree year
-
1997-12-17
Note and Description
博士論文
Table of Contents
- 論文要旨 / p1 (0003.jp2)
- 目次 / p1 (0006.jp2)
- 第I部 序論 / p1 (0008.jp2)
- 1.1 薄膜の機械的性質の重要性と現状 / p1 (0008.jp2)
- 1.2 本研究の動機と目的 / p4 (0010.jp2)
- 1.3 本論文の構成 / p5 (0010.jp2)
- 参考文献 / p6 (0011.jp2)
- 第II部 測定機 / p8 (0012.jp2)
- 2.1 引き倒し試験機 / p8 (0012.jp2)
- 2.2 微小摩擦引っ搔き試験機(Micro-Tribometer) / p10 (0013.jp2)
- 2.3 内部応力測定機 / p15 (0015.jp2)
- 参考文献 / p17 (0016.jp2)
- 第III部 付着力､摩擦係数 / p18 (0017.jp2)
- 3.1 試料作製 / p18 (0017.jp2)
- 3.2 付着力の測定 / p23 (0019.jp2)
- 3.3 摩擦係数の測定 / p55 (0035.jp2)
- 参考文献 / p62 (0039.jp2)
- 第IV部 付着力測定値のばらつき / p65 (0040.jp2)
- 4.1 ワイブル分布 / p65 (0040.jp2)
- 4.2 ワイブル分布関数による蒸着膜の付着力の解析 / p68 (0042.jp2)
- 4.3 付着分布関数 / p73 (0044.jp2)
- 4.4 まとめ / p74 (0045.jp2)
- 参考文献 / p74 (0045.jp2)
- 第V部 実用材料への応用 / p76 (0046.jp2)
- 5.1.1 光学素子用膜 / p76 (0046.jp2)
- 5.1.2 磁性材料膜 / p80 (0048.jp2)
- 5.1.3 高分子膜(液晶関連) / p82 (0049.jp2)
- 5.1.4 その他 / p82 (0049.jp2)
- 5.1.5 まとめ / p84 (0050.jp2)
- 参考文献 / p84 (0050.jp2)
- 第VI部 内部応力 / p85 (0050.jp2)
- 6.1 内部応力 / p90 (0053.jp2)
- 6.2 クラックの発生 / p92 (0054.jp2)
- 6.3 まとめ / p93 (0054.jp2)
- 参考文献 / p93 (0054.jp2)
- 第VII部 結論 / p95 (0055.jp2)
- 付録 / p98 (0057.jp2)
- 1.引き倒し法による付着力の計算 / p98 (0057.jp2)
- 2.引っ搔き法による付着力の計算 / p106 (0061.jp2)
- 3.ワイブル分布 / p107 (0061.jp2)
- 4.接触角の測定 / p109 (0062.jp2)
- 謝辞 / p110 (0063.jp2)
- 研究業績 / p111 (0063.jp2)
- [A]原著論文 / p111 (0063.jp2)
- [B]速報論文 / p112 (0064.jp2)
- [C]著書 / p113 (0064.jp2)
- [D]研究紀要等報告書 / p113 (0064.jp2)
- [E]口頭発表 / p114 (0065.jp2)