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フロン関連触媒プロセスに関する研究

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著者

    • 李, 公良 リー, コウリョウ

書誌事項

タイトル

フロン関連触媒プロセスに関する研究

著者名

李, 公良

著者別名

リー, コウリョウ

学位授与大学

東京工業大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第3546号

学位授与年月日

1997-03-26

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0002.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
  4. 1.1 フロンの性質と応用 / p1 (0007.jp2)
  5. 1.2 フロンの環境汚染問題 / p4 (0010.jp2)
  6. 1.3 フロン対策の展開 / p5 (0011.jp2)
  7. 1.4 フロンの触媒分解法 / p9 (0015.jp2)
  8. 1.5 本研究の目的と概要 / p17 (0023.jp2)
  9. 参考文献 / p18 (0024.jp2)
  10. 第二章 フロン22(CHClF₂)の接触分解 / p21 (0027.jp2)
  11. 2.1 緒言 / p21 (0027.jp2)
  12. 2.2 実験 / p22 (0028.jp2)
  13. 2.3 CHClF₂の反応結果と考察 / p25 (0031.jp2)
  14. 2.4 本章のまとめ / p42 (0048.jp2)
  15. 参考文献 / p43 (0049.jp2)
  16. 第三章 フロン12(CCl₂F₂)の接触分解 / p44 (0050.jp2)
  17. 3.1 緒言 / p44 (0050.jp2)
  18. 3.2 実験 / p44 (0050.jp2)
  19. 3.3 フロン12(CCl₂F₂)の反応結果と考察 / p44 (0050.jp2)
  20. 3.4 本章のまとめ / p66 (0072.jp2)
  21. 第四章 CF₃CH₃(フロン143a)の選択的脱HF反応 / p66 (0073.jp2)
  22. 4.1 緒言 / p66 (0073.jp2)
  23. 4.2 実験 / p67 (0074.jp2)
  24. 4.3 反応結果と考察 / p69 (0076.jp2)
  25. 4.4 本章のまとめ / p105 (0112.jp2)
  26. 参考文献 / p106 (0113.jp2)
  27. 第五章 総括 / p107 (0114.jp2)
  28. 謝辞 / (0118.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000153748
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000001092762
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000318062
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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