フロン関連触媒プロセスに関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
フロン関連触媒プロセスに関する研究
- 著者名
-
李, 公良
- 著者別名
-
リー, コウリョウ
- 学位授与大学
-
東京工業大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第3546号
- 学位授与年月日
-
1997-03-26
注記・抄録
博士論文
目次
- 論文目録 / (0002.jp2)
- 目次 / (0004.jp2)
- 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
- 1.1 フロンの性質と応用 / p1 (0007.jp2)
- 1.2 フロンの環境汚染問題 / p4 (0010.jp2)
- 1.3 フロン対策の展開 / p5 (0011.jp2)
- 1.4 フロンの触媒分解法 / p9 (0015.jp2)
- 1.5 本研究の目的と概要 / p17 (0023.jp2)
- 参考文献 / p18 (0024.jp2)
- 第二章 フロン22(CHClF₂)の接触分解 / p21 (0027.jp2)
- 2.1 緒言 / p21 (0027.jp2)
- 2.2 実験 / p22 (0028.jp2)
- 2.3 CHClF₂の反応結果と考察 / p25 (0031.jp2)
- 2.4 本章のまとめ / p42 (0048.jp2)
- 参考文献 / p43 (0049.jp2)
- 第三章 フロン12(CCl₂F₂)の接触分解 / p44 (0050.jp2)
- 3.1 緒言 / p44 (0050.jp2)
- 3.2 実験 / p44 (0050.jp2)
- 3.3 フロン12(CCl₂F₂)の反応結果と考察 / p44 (0050.jp2)
- 3.4 本章のまとめ / p66 (0072.jp2)
- 第四章 CF₃CH₃(フロン143a)の選択的脱HF反応 / p66 (0073.jp2)
- 4.1 緒言 / p66 (0073.jp2)
- 4.2 実験 / p67 (0074.jp2)
- 4.3 反応結果と考察 / p69 (0076.jp2)
- 4.4 本章のまとめ / p105 (0112.jp2)
- 参考文献 / p106 (0113.jp2)
- 第五章 総括 / p107 (0114.jp2)
- 謝辞 / (0118.jp2)