rfマグネトロンスパッタ法によるLiNbO[3]薄膜の作製とその弾性表面波特性に関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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rfマグネトロンスパッタ法によるLiNbO[3]薄膜の作製とその弾性表面波特性に関する研究
- 著者名
-
西田, 貴司
- 著者別名
-
ニシダ, タカシ
- 学位授与大学
-
京都大学
- 取得学位
-
博士 (工学)
- 学位授与番号
-
甲第7460号
- 学位授与年月日
-
1998-05-25
注記・抄録
博士論文
本文データは平成22年度国立国会図書館の学位論文(博士)のデジタル化実施により作成された画像ファイルを基にpdf変換したものである
目次
- 論文目録 / (0001.jp2)
- 目次 / p1 (0004.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0006.jp2)
- 1.1 研究の背景 / p1 (0006.jp2)
- 1.2 本研究の目的 / p10 (0011.jp2)
- 1.3 本論文の構成 / p11 (0011.jp2)
- 参考文献 / p14 (0013.jp2)
- 第2章 LiNbO₃薄膜の作製 / p16 (0014.jp2)
- 2.1 諸言 / p16 (0014.jp2)
- 2.2 製膜方法 / p17 (0014.jp2)
- 2.3 基板材料 / p21 (0016.jp2)
- 2.4 LiNbO₃薄膜の配向性･組成等の評価 / p24 (0018.jp2)
- 2.5 本章の結論 / p45 (0028.jp2)
- 参考文献 / p47 (0029.jp2)
- 第3章 LiNbO₃薄膜の結晶構造および電気的特性の評価 / p49 (0030.jp2)
- 3.1 諸言 / p49 (0030.jp2)
- 3.2 エネルギー分散型全反射X線回折計による面内配向性および面内応力の評価 / p50 (0031.jp2)
- 3.3 電気的特性の評価 / p67 (0039.jp2)
- 3.4 本章の結論 / p75 (0043.jp2)
- 参考文献 / p76 (0044.jp2)
- 第4章 LiNbO₃製膜時における外部電界印加による膜質改善 / p77 (0044.jp2)
- 4.1 諸言 / p77 (0044.jp2)
- 4.2 バイアススパッタリング装置 / p78 (0045.jp2)
- 4.3 基板への電圧直接印加によるバイアススパッタ製膜 / p80 (0046.jp2)
- 4.4 グリッド電極を用いた電界印加によるバイアススパッタ製膜 / p90 (0051.jp2)
- 4.5 結論 / p102 (0057.jp2)
- 参考文献 / p104 (0058.jp2)
- 第5章 LiNbO₃薄膜の弾性表面波特性の解析および評価 / p106 (0059.jp2)
- 5.1 諸言 / p106 (0059.jp2)
- 5.2 LiNbO₃薄膜の弾性表面波特性の計算機解析 / p107 (0059.jp2)
- 5.3 LiNbO₃薄膜の弾性表面波特性の評価 / p135 (0073.jp2)
- 5.4 結論 / p138 (0075.jp2)
- 参考文献 / p140 (0076.jp2)
- 第6章 総括 / p141 (0076.jp2)
- 謝辞 / p144 (0078.jp2)