シリコン及びゲルマニウム融液の基本物性測定とその融液流動に及ぼす影響に関する研究

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著者

    • 中西, 秀夫 ナカニシ, ヒデオ

書誌事項

タイトル

シリコン及びゲルマニウム融液の基本物性測定とその融液流動に及ぼす影響に関する研究

著者名

中西, 秀夫

著者別名

ナカニシ, ヒデオ

学位授与大学

湘南工科大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第3号

学位授与年月日

1999-03-21

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 1.1 本研究の背景 / p1 (0005.jp2)
  4. 1.2 半導体基本物性の従来報告 / p8 (0009.jp2)
  5. 1.3 本研究の目的と意義 / p31 (0020.jp2)
  6. 1.4 本論文の構成と展開 / p32 (0021.jp2)
  7. 第2章 シリコン及びゲルマニウム融液の密度 / p37 (0023.jp2)
  8. 2.1 融液密度の測定 / p37 (0023.jp2)
  9. 2.2 シリコン融液の密度 / p42 (0026.jp2)
  10. 2.3 ゲルマニュウム融液の密度 / p83 (0046.jp2)
  11. 2.4 まとめ / p90 (0050.jp2)
  12. 第3章 シリコンを含んだゲルマニウム融液密度 / (0051.jp2)
  13. 3.1 シリコンを含んだゲルマニウム融液密度 / p93 (0051.jp2)
  14. 3.2 シリコンを添加したゲルマニウム融液の急冷実験 / p101 (0055.jp2)
  15. 3.3 まとめ / p114 (0062.jp2)
  16. 第4章 シリコン及びゲルマニウム融液の表面張力 / p116 (0063.jp2)
  17. 4.1 円環法の原理 / p117 (0063.jp2)
  18. 4.2 シリコン融液の表面張力 / p119 (0064.jp2)
  19. 4.3 ゲルマニウム融液の表面張力 / p132 (0071.jp2)
  20. 4.4 ゲルマニウム融液の接触角測定 / p148 (0079.jp2)
  21. 4.5 まとめ / p150 (0080.jp2)
  22. 第5章 密度及び表面張力の温度依存性を考慮した坩堝内シリコン融液流動 / p153 (0081.jp2)
  23. 5.1 解析の基本式と数値解法 / p153 (0081.jp2)
  24. 5.2 解析モデル / p157 (0083.jp2)
  25. 5.3 シリコン融液の物性値 / p158 (0084.jp2)
  26. 5.4 境界条件 / p159 (0084.jp2)
  27. 5.5 計算結果 / p161 (0085.jp2)
  28. 5.6 まとめ / p170 (0090.jp2)
  29. 第6章 シリコン融液内酸素分布と坩堝内流動との相関 / p172 (0091.jp2)
  30. 6.1 境界条件 / p173 (0091.jp2)
  31. 6.2 計算結果 / p177 (0093.jp2)
  32. 6.3 まとめ / p183 (0096.jp2)
  33. 第7章 結論 / p185 (0097.jp2)
  34. 7.1 本研究の総括 / p185 (0097.jp2)
  35. 7.2 今後の展望と課題 / p192 (0101.jp2)
  36. 7.3 おわりに / p193 (0101.jp2)
  37. 謝辞 / p194 (0102.jp2)
  38. 研究業績 / p195 (0102.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170099
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000170372
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000334413
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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