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キラルアミドホスフィン配位子を用いる触媒的不斉共役付加反応の開発

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著者

    • 中川, 祐一 ナカガワ, ユウイチ

書誌事項

タイトル

キラルアミドホスフィン配位子を用いる触媒的不斉共役付加反応の開発

著者名

中川, 祐一

著者別名

ナカガワ, ユウイチ

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (薬学)

学位授与番号

甲第7800号

学位授与年月日

1999-03-23

注記・抄録

博士論文

新制・課程博士

甲第7800号

薬博第436号

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. 目次 / (0004.jp2)
  3. 序論 / p1 (0005.jp2)
  4. 第一章 有機銅を用いる不斉共役付加反応 / p2 (0006.jp2)
  5. 第二章 キラルアミドホスフィンを用いる新規銅錯体触媒の開発 / p7 (0009.jp2)
  6. 第一節 錯体触媒の設計 / p7 (0009.jp2)
  7. 第二節 キラルアミドホスフィンの合成 / p9 (0010.jp2)
  8. 第三節 新規銅錯体触媒を用いるGrignard反応剤の不斉共役付加反応 / p10 (0010.jp2)
  9. 第四節 新規銅錯体触媒を用いるジエチル亜鉛の不斉共役付加反応 / p18 (0014.jp2)
  10. 第五節 考察と展望 / p20 (0015.jp2)
  11. 第三章 キラルアミドホスフィン配位子の最適化―有機銅反応剤の不斉共役付加反応― / p22 (0016.jp2)
  12. 第一節 背景 / p22 (0016.jp2)
  13. 第二節 配位子の設計 / p23 (0017.jp2)
  14. 第三節 配位子の合成 / p23 (0017.jp2)
  15. 第四節 金属選択的配位能の評価 / p25 (0018.jp2)
  16. 第五節 官能基の位置因子の最適化 / p25 (0018.jp2)
  17. 第六節 立体制御基の導入による最適化 / p26 (0018.jp2)
  18. 第七節 考察と展望 / p27 (0019.jp2)
  19. 第四章 結論及び要約 / p29 (0020.jp2)
  20. 第五章 実験項 / p30 (0020.jp2)
  21. References / p64 (0037.jp2)
1アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170361
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000170635
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000334675
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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