Gas cluster ion-solid surface in teraction and thin film formation ガスクライスターイオンと固体表面の相互作用及び薄膜形成に関する研究

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著者

    • 秋月, 誠 アキズキ, マコト

書誌事項

タイトル

Gas cluster ion-solid surface in teraction and thin film formation

タイトル別名

ガスクライスターイオンと固体表面の相互作用及び薄膜形成に関する研究

著者名

秋月, 誠

著者別名

アキズキ, マコト

学位授与大学

京都大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第7811号

学位授与年月日

1999-03-23

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. Contents / p15 (0011.jp2)
  3. 1 Introduction / p1 (0012.jp2)
  4. 1.1 Ion beam processing / p1 (0012.jp2)
  5. 1.2 Advantages of the gas cluster ion beam technique / p2 (0013.jp2)
  6. 1.3 Issues of thin film formation in electronic devices / p4 (0014.jp2)
  7. 1.4 The purpose of this study / p7 (0015.jp2)
  8. 2 Gas cluster ion beam apparatus / p9 (0016.jp2)
  9. 2.1 Introduction / p9 (0016.jp2)
  10. 2.2 The principle of gas cluster generation / p10 (0017.jp2)
  11. 2.3 10 kV gas cluster ion beam apparatus / p10 (0017.jp2)
  12. 2.4 30 kV gas cluster ion beam apparatus / p22 (0023.jp2)
  13. 2.5 200 kV gas cluster ion beam apparatus / p22 (0023.jp2)
  14. 2.6 Generation of intense gas cluster beams / p25 (0024.jp2)
  15. 2.7 Generation of high-current gas cluster ion beams / p37 (0030.jp2)
  16. 2.8 Generation of gas cluster ion beams from liquid sources / p45 (0034.jp2)
  17. 2.9 Summary / p50 (0037.jp2)
  18. 3 Gas cluster ion-solid surface interaction / p53 (0038.jp2)
  19. 3.1 Introduction / p53 (0038.jp2)
  20. 3.2 Low energy effect / p56 (0040.jp2)
  21. 3.3 High yield sputtering and surface smoothing / p63 (0043.jp2)
  22. 3.4 Enhancement of surface chemical reaction / p88 (0056.jp2)
  23. 3.5 Molecular Dynamics simulation / p96 (0060.jp2)
  24. 3.6 Summary / p102 (0063.jp2)
  25. 4 Oxide film formation by O₂ cluster ion beams / p109 (0066.jp2)
  26. 4.1 Introduction / p109 (0066.jp2)
  27. 4.2 Experimental procedure / p111 (0067.jp2)
  28. 4.3 Room-temperature oxidation of by O₂ cluster ion oxidation / p114 (0069.jp2)
  29. 4.4 Low-temperature formation of lead-base oxide films by O₂ cluster ion-assisted deposition / p120 (0072.jp2)
  30. 4.5 Transparent conductive oxide film formation by O₂ cluster ion-assisted deposition / p135 (0079.jp2)
  31. 4.6 Summary / p149 (0086.jp2)
  32. 5 Conclusions / p153 (0088.jp2)
  33. List of publications / p157 (0090.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170372
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000170646
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000334686
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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