弾性表面波デバイス用高耐電力電極膜に関する研究

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著者

    • 木村, 悟利 キムラ, ノリトシ

書誌事項

タイトル

弾性表面波デバイス用高耐電力電極膜に関する研究

著者名

木村, 悟利

著者別名

キムラ, ノリトシ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第6905号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0006.jp2)
  3. 1.1 研究の背景 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.2 研究の目的 / p5 (0010.jp2)
  5. 1.3 本論文の構成 / p6 (0011.jp2)
  6. 第2章 二重モード型SAWフィルタの耐電力性評価 / p8 (0013.jp2)
  7. 2.1 まえがき / p8 (0013.jp2)
  8. 2.2 二重モード型SAWフィルタの試作 / p9 (0014.jp2)
  9. 2.3 耐電力性評価方法 / p15 (0020.jp2)
  10. 2.4 素子寿命の周波数依存性 / p17 (0022.jp2)
  11. 2.5 周囲温度および印加電力に対する素子寿命 / p21 (0026.jp2)
  12. 2.6 電力印加時の電極表面温度観察 / p26 (0031.jp2)
  13. 2.7 むすび / p46 (0051.jp2)
  14. 第3章 CU偏析を利用したAl-CU合金電極膜の高耐電力化 / p47 (0052.jp2)
  15. 3.1 まえがき / p47 (0052.jp2)
  16. 3.2 耐電力試験後の電極膜表面観察 / p48 (0053.jp2)
  17. 3.3 熱処理による素子寿命の変化 / p52 (0057.jp2)
  18. 3.4 熱処理による結晶粒界へのCu偏析 / p55 (0060.jp2)
  19. 3.5 熱処理による結晶粒径および膜応力の変化 / p58 (0063.jp2)
  20. 3.6 考察 / p61 (0066.jp2)
  21. 3.7 むすび / p62 (0067.jp2)
  22. 第4章 高融点金属を添加したAl合金電極膜 / p64 (0069.jp2)
  23. 4.1 まえがき / p64 (0069.jp2)
  24. 4.2 成膜方法 / p64 (0069.jp2)
  25. 4.3 Al-Ta合金電極膜 / p65 (0070.jp2)
  26. 4.4 Al-W合金電極膜 / p74 (0079.jp2)
  27. 4.5 ウィスカー発生について / p78 (0083.jp2)
  28. 4.6 むすび / p79 (0084.jp2)
  29. 第5章 Tiバッファ一層を用いた単結晶Al電極膜 / p80 (0085.jp2)
  30. 5.1 まえがき / p80 (0085.jp2)
  31. 5.2 成膜方法 / p81 (0086.jp2)
  32. 5.3 Tiバッファ一層上に作製したAl膜の性質 / p83 (0088.jp2)
  33. 5.4 64°Y-X LiNbO₃上に作製したTi膜の性質 / p89 (0094.jp2)
  34. 5.5 他基板上におけるTiバッファ一層上のAl膜の性質 / p95 (0100.jp2)
  35. 5.6 エピタキシャル関係に関する考察 / p98 (0103.jp2)
  36. 5.7 単結晶Al/Ti電極膜SAWフィルタの特性 / p102 (0107.jp2)
  37. 5.8 各電極膜における耐電力性評価の総括 / p105 (0110.jp2)
  38. 5.9 むすび / p109 (0114.jp2)
  39. 第6章 結論 / p110 (0115.jp2)
  40. 謝辞 / p113 (0118.jp2)
  41. 本研究に関する公表論文 / p115 (0120.jp2)
  42. 参考文献 / p119 (0124.jp2)
  43. 付録 / p127 (0132.jp2)
9アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170924
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000171198
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000335238
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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