極清浄雰囲気中で作製したスピンバルブ型GMR薄膜の微細構造と磁気特性に関する研究

この論文をさがす

著者

    • 釆山, 和弘 ウネヤマ, カズヒロ

書誌事項

タイトル

極清浄雰囲気中で作製したスピンバルブ型GMR薄膜の微細構造と磁気特性に関する研究

著者名

釆山, 和弘

著者別名

ウネヤマ, カズヒロ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第6923号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / p1 (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0008.jp2)
  3. 第1節 本研究の背景 / p1 (0008.jp2)
  4. 1-1 磁気記録密度の高密度化 / p1 (0008.jp2)
  5. 1-2 スピンバルブ型GMR膜 / p3 (0010.jp2)
  6. 1-3 交換磁気異方性とスピン依存散乱 / p4 (0011.jp2)
  7. 1-4 成膜プロセスの清浄化 / p9 (0016.jp2)
  8. 第2節 本研究の目的 / p16 (0023.jp2)
  9. 第2章 実験方法 / p22 (0029.jp2)
  10. 第1節 試料の作製方法 / p22 (0029.jp2)
  11. 1-1 基板、及びその洗浄方法 / p22 (0029.jp2)
  12. 1-2 極高真空対応マルチスパッタ装置による試料の作製 / p22 (0029.jp2)
  13. 1-3 超高真空対応対向ターゲット式スパッタ装置による試料の作製 / p24 (0031.jp2)
  14. 1-4 試料の熱処理 / p26 (0033.jp2)
  15. 第2節 磁気測定 / p31 (0038.jp2)
  16. 2-1 交換磁気異方性の評価 / p31 (0038.jp2)
  17. 2-2 巨大磁気抵抗効果の評価 / p33 (0040.jp2)
  18. 2-3 フリー層、ピン層における層間結合の評価 / p34 (0041.jp2)
  19. 第3節 構造解析 / p38 (0045.jp2)
  20. 3-1 膜厚測定 / p38 (0045.jp2)
  21. 3-2 X線回折 / p38 (0045.jp2)
  22. 3-3 組成分析 / p38 (0045.jp2)
  23. 3-4 透過電子顕微鏡(TEM) / p39 (0046.jp2)
  24. 3-5 原子間力顕微鏡(AFM) / p39 (0046.jp2)
  25. 第3章 極清浄雰囲気対応マルチスパッタ装置の試作と性能評価 / p41 (0048.jp2)
  26. 第1節 緒言 / p41 (0048.jp2)
  27. 第2節 成膜雰囲気の清浄性 / p43 (0050.jp2)
  28. 第3節 極清浄雰囲気対応スパッタ装置の試作 / p49 (0056.jp2)
  29. 3-1 設計コンセプトと装置概要 / p49 (0056.jp2)
  30. 3-2 成膜室 / p51 (0058.jp2)
  31. 3-3 搬送ロボット / p54 (0061.jp2)
  32. 3-4 プロセスガス供給系 / p56 (0063.jp2)
  33. 第4節 極清浄雰囲気対応スパッタ装置の性能評価 / p68 (0075.jp2)
  34. 4-1 真空排気特性 / p68 (0075.jp2)
  35. 4-2 静的ガス放出特性 / p68 (0075.jp2)
  36. 4-3 動的ガス放出特性 / p69 (0076.jp2)
  37. 4-4 マルチスパッタ装置の成膜雰囲気清浄性の評価 / p72 (0079.jp2)
  38. 第5節 今後の開発課題 / p80 (0087.jp2)
  39. 第6節 結言 / p85 (0092.jp2)
  40. 第4章 強磁性層/反強磁性層積層膜の交換磁気異方性に及ぼす成膜雰囲気清浄性の影響 / p90 (0097.jp2)
  41. 第1節 緒言 / p90 (0097.jp2)
  42. 第2節 Ni-Fe/Mn-Ni積層膜の構造と交換磁気異方性 / p94 (0101.jp2)
  43. 2-1 成膜雰囲気清浄性の影響 / p94 (0101.jp2)
  44. 2-2 界面ガス吸着の影響 / p111 (0118.jp2)
  45. 第3節 Ni-Fe/Mn-Ir積層膜の構造と交換磁気異方性に及ぼす成膜雰囲気清浄性の影響 / p126 (0133.jp2)
  46. 第4節 交換磁気異方性を有効に作用させるための強磁性層/反強磁性層積層膜の微細構造 / p140 (0147.jp2)
  47. 第5節 結言 / p144 (0151.jp2)
  48. 第5章 強磁性層/Cu/強磁性層の微細構造とスピン依存散乱に及ぼす成膜雰囲気清浄性の影響 / p150 (0157.jp2)
  49. 第1節 緒言 / p150 (0157.jp2)
  50. 第2節 磁気抵抗変化率、及び磁気特性に対する到達真空度依存性 / p156 (0163.jp2)
  51. 第3節 磁気抵抗変化率、及び磁気特性に対する構成各層の膜厚依存性 / p165 (0172.jp2)
  52. 3-1 反強磁性層厚依存 / p165 (0172.jp2)
  53. 3-2 ピン層厚依存 / p167 (0174.jp2)
  54. 3-3 フリー層厚依存 / p169 (0176.jp2)
  55. 3-4 スピンバルブ型GMR膜の薄膜化 / p171 (0178.jp2)
  56. 第4節 スピン依存散乱を有効に起こすための強磁性層/Cu/強磁性層の構造 / p183 (0190.jp2)
  57. 第5節 界面ガス吸着がスピン依存散乱に及ぼす影響 / p197 (0204.jp2)
  58. 第6節 酸素ガス導入による制御雰囲気中成膜の効果 / p205 (0212.jp2)
  59. 第7節 結言 / p216 (0223.jp2)
  60. 第6章 極清浄雰囲気下で作製したスピンバルブ型GMR膜の高温動作特性と耐熱性 / p222 (0229.jp2)
  61. 第1節 緒言 / p222 (0229.jp2)
  62. 第2節 交換磁気異方性の温度依存性 / p224 (0231.jp2)
  63. 第3節 磁気抵抗変化率の温度依存性 / p228 (0235.jp2)
  64. 3-1 昇温、及び降温過程における磁気抵抗変化特性 / p228 (0235.jp2)
  65. 3-2 高温保持状態における磁気抵抗変化特性 / p230 (0237.jp2)
  66. 第4節 熱処理による磁気抵抗変化率劣化のメカニズム / p240 (0247.jp2)
  67. 第5節 結言 / p248 (0255.jp2)
  68. 第7章 結論 / p252 (0259.jp2)
  69. 謝辞 / p264 (0271.jp2)
0アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170942
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000171216
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000335256
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ