半導体ウェットクリーニングプロセスの研究 半導体 ウェット クリーニング プロセス

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著者

    • 都賀智仁 ツガ, トシヒト

書誌事項

タイトル

半導体ウェットクリーニングプロセスの研究

タイトル別名

半導体 ウェット クリーニング プロセス

著者名

都賀智仁

著者別名

ツガ, トシヒト

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士 (工学)

学位授与番号

甲第6924号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  3. 1-1 はじめに / p1 (0007.jp2)
  4. 1-2 研究の背景 / p3 (0009.jp2)
  5. 1-3 本研究の目的 / p5 (0011.jp2)
  6. 1-4 本論文の構成 / p6 (0012.jp2)
  7. 参考文献 / p7 (0013.jp2)
  8. 第2章 高性能ウエットクリーニングプロセスの要件 / p9 (0015.jp2)
  9. 2-1 はじめに / p9 (0015.jp2)
  10. 2-2 表面ラフネスレベルヘの要求 / p10 (0016.jp2)
  11. 2-3 金属不純物レベルへの要求 / p23 (0029.jp2)
  12. 2-4 有機不純物レベルへの要求 / p31 (0037.jp2)
  13. 2-5 パーティクルレベルへの要求 / p35 (0041.jp2)
  14. 2-6 おわりに / p47 (0053.jp2)
  15. 参考文献 / p48 (0054.jp2)
  16. 第3章 枚葉式スピン型洗浄装置の開発 / p50 (0056.jp2)
  17. 3-1 はじめに / p50 (0056.jp2)
  18. 3-2 次世代洗浄装置の基本コンセプト / p51 (0057.jp2)
  19. 3-3 高生産性洗浄装置の開発 / p54 (0060.jp2)
  20. 3-4 無発塵枚葉式洗浄システムの開発 / p58 (0064.jp2)
  21. 3-5 シリコンウエハ表面状態の研究 / p69 (0075.jp2)
  22. 3-6 枚葉式スピン型洗浄装置の性能評価 / p77 (0083.jp2)
  23. 3-7 おわりに / p81 (0087.jp2)
  24. 参考文献 / p82 (0088.jp2)
  25. 第4章 メガソニック技術の研究 / p84 (0090.jp2)
  26. 4-1 はじめに / p84 (0090.jp2)
  27. 4-2 枚葉式洗浄法における理想的なメガソニック照射方法 / p85 (0091.jp2)
  28. 4-3 メガソニックエネルギーの透過理論 / p86 (0092.jp2)
  29. 4-4 斜め入射による効果(実験での実証) / p90 (0096.jp2)
  30. 4-5 おわりに / p94 (0100.jp2)
  31. 参考文献 / p95 (0101.jp2)
  32. 第5章 結論 / p96 (0102.jp2)
  33. 謝辞 / p98 (0104.jp2)
  34. 発表論文 / p100 (0106.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170943
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000171217
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000335257
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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