半導体ウェットクリーニングプロセスの研究 半導体 ウェット クリーニング プロセス

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Author

    • 都賀智仁 ツガ, トシヒト

Bibliographic Information

Title

半導体ウェットクリーニングプロセスの研究

Other Title

半導体 ウェット クリーニング プロセス

Author

都賀智仁

Author(Another name)

ツガ, トシヒト

University

東北大学

Types of degree

博士 (工学)

Grant ID

甲第6924号

Degree year

1999-03-25

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0007.jp2)
  3. 1-1 はじめに / p1 (0007.jp2)
  4. 1-2 研究の背景 / p3 (0009.jp2)
  5. 1-3 本研究の目的 / p5 (0011.jp2)
  6. 1-4 本論文の構成 / p6 (0012.jp2)
  7. 参考文献 / p7 (0013.jp2)
  8. 第2章 高性能ウエットクリーニングプロセスの要件 / p9 (0015.jp2)
  9. 2-1 はじめに / p9 (0015.jp2)
  10. 2-2 表面ラフネスレベルヘの要求 / p10 (0016.jp2)
  11. 2-3 金属不純物レベルへの要求 / p23 (0029.jp2)
  12. 2-4 有機不純物レベルへの要求 / p31 (0037.jp2)
  13. 2-5 パーティクルレベルへの要求 / p35 (0041.jp2)
  14. 2-6 おわりに / p47 (0053.jp2)
  15. 参考文献 / p48 (0054.jp2)
  16. 第3章 枚葉式スピン型洗浄装置の開発 / p50 (0056.jp2)
  17. 3-1 はじめに / p50 (0056.jp2)
  18. 3-2 次世代洗浄装置の基本コンセプト / p51 (0057.jp2)
  19. 3-3 高生産性洗浄装置の開発 / p54 (0060.jp2)
  20. 3-4 無発塵枚葉式洗浄システムの開発 / p58 (0064.jp2)
  21. 3-5 シリコンウエハ表面状態の研究 / p69 (0075.jp2)
  22. 3-6 枚葉式スピン型洗浄装置の性能評価 / p77 (0083.jp2)
  23. 3-7 おわりに / p81 (0087.jp2)
  24. 参考文献 / p82 (0088.jp2)
  25. 第4章 メガソニック技術の研究 / p84 (0090.jp2)
  26. 4-1 はじめに / p84 (0090.jp2)
  27. 4-2 枚葉式洗浄法における理想的なメガソニック照射方法 / p85 (0091.jp2)
  28. 4-3 メガソニックエネルギーの透過理論 / p86 (0092.jp2)
  29. 4-4 斜め入射による効果(実験での実証) / p90 (0096.jp2)
  30. 4-5 おわりに / p94 (0100.jp2)
  31. 参考文献 / p95 (0101.jp2)
  32. 第5章 結論 / p96 (0102.jp2)
  33. 謝辞 / p98 (0104.jp2)
  34. 発表論文 / p100 (0106.jp2)
8access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000170943
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000171217
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000335257
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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