半導体製造用空調空間におけるクリーン化技術に関する研究

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著者

    • 渡邉, 幸次 ワタナベ, コウジ

書誌事項

タイトル

半導体製造用空調空間におけるクリーン化技術に関する研究

著者名

渡邉, 幸次

著者別名

ワタナベ, コウジ

学位授与大学

東北大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第6944号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0004.jp2)
  2. 第1章 緒論 / p1 (0007.jp2)
  3. 1-1 本研究の背景 / p1 (0007.jp2)
  4. 1-2 本研究の目的 / p6 (0012.jp2)
  5. 1-3 本研究の概要 / p6 (0012.jp2)
  6. 1-4 既往の研究 / p8 (0014.jp2)
  7. Nomenclature / p41 (0047.jp2)
  8. 第2章 クリーンルーム内化学汚染源の把握と防止対策 / p43 (0049.jp2)
  9. 2-1 序 / p43 (0049.jp2)
  10. 2-2 クリーンルーム構成部材と露出表面積 / p44 (0050.jp2)
  11. 2-3 ボロン、リン汚染 / p46 (0052.jp2)
  12. 2-4 揮発性有機化合物汚染 / p50 (0056.jp2)
  13. 2-5 吸着材による揮発性有機化合物汚染対策 / p56 (0062.jp2)
  14. 2-6 結言 / p64 (0070.jp2)
  15. Nomenclature / p65 (0071.jp2)
  16. 第3章 ファンフィルタユニットによる局所清浄化 / p66 (0072.jp2)
  17. 3-1 序 / p66 (0072.jp2)
  18. 3-2 清浄域ゾーニング / p67 (0073.jp2)
  19. 3-3 アイリッド方式及び拡散吹出方式による局所清浄域拡大方法 / p79 (0085.jp2)
  20. 3-4 結言 / p91 (0097.jp2)
  21. Nomenclature / p93 (0099.jp2)
  22. 第4章 局所清浄化の気流・塵埃解析 / p94 (0100.jp2)
  23. 4-1 序 / p94 (0100.jp2)
  24. 4-2 大空間における時間平均モデル(k-ε2方程式モデル)による解析 / p95 (0101.jp2)
  25. 4-3 局所空間における解析 / p103 (0109.jp2)
  26. 4-4 結言 / p122 (0128.jp2)
  27. Nomenclature / p123 (0129.jp2)
  28. 第5章 局所清浄化時の移動体廻りの気流・塵埃挙動 / p125 (0131.jp2)
  29. 5-1 序 / p125 (0131.jp2)
  30. 5-2 無人搬送車廻りの気流・塵埃特性 / p126 (0132.jp2)
  31. 5-3 移動体廻りの気流・塵埃解析 / p137 (0143.jp2)
  32. 5-4 結言 / p149 (0155.jp2)
  33. Nomenclature / p150 (0156.jp2)
  34. 第6章 結論 / p151 (0157.jp2)
  35. 引用文献 / p153 (0159.jp2)
  36. 関連発表 / (0169.jp2)
  37. 謝辞 / (0170.jp2)
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各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000170963
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000171237
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000335277
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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