発光CTによるVHF駆動リアクティブイオンエッチャーの2次元構造診断

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Author

    • 北嶋, 武 キタジマ, タケシ

Bibliographic Information

Title

発光CTによるVHF駆動リアクティブイオンエッチャーの2次元構造診断

Author

北嶋, 武

Author(Another name)

キタジマ, タケシ

University

慶応義塾大学

Types of degree

博士(工学)

Grant ID

甲第1687号

Degree year

1999-03-23

Note and Description

博士論文

Table of Contents

  1. 論文目録 / (0001.jp2)
  2. もくじ / p1 (0004.jp2)
  3. 1 序論 / p1 (0006.jp2)
  4. 1.1 現代社会とLSI / p2 (0007.jp2)
  5. 1.2 半導体素子の微細化 / p2 (0007.jp2)
  6. 1.3 プラズマプロセスとその応用 / p6 (0009.jp2)
  7. 1.4 シリコン酸化膜エッチングの概要 / p7 (0009.jp2)
  8. 1.5 酸化膜エッチャー発展の経緯 / p8 (0010.jp2)
  9. 1.6 酸化膜エッチング用プラズマの要件 / p11 (0011.jp2)
  10. 1.7 プラズマ均一性の要件 / p12 (0012.jp2)
  11. 1.8 プロセスプラズマ制御の概要 / p14 (0013.jp2)
  12. 1.9 プロセスプラズマの診断 / p15 (0013.jp2)
  13. 1.10 プロセスプラズマ研究の多次元化 / p17 (0014.jp2)
  14. 1.11 本論文の目的および構成 / p20 (0016.jp2)
  15. 2 実験 / p21 (0016.jp2)
  16. 2.1 実験装置 / p22 (0017.jp2)
  17. 2.2 測定原理 / p46 (0029.jp2)
  18. 2.3 時間平均測定とデータ処理 / p54 (0033.jp2)
  19. 2.4 時間分解測定原理 / p64 (0038.jp2)
  20. 2.5 時間分解測定とデータ処理 / p75 (0043.jp2)
  21. 2.6 測定波長 / p78 (0045.jp2)
  22. 2.7 混合されたスペクトルの分解 / p80 (0046.jp2)
  23. 2.8 プラズマ消費電力の測定 / p83 (0047.jp2)
  24. 2.9 マイクロ波干渉計による電子密度測定 / p84 (0048.jp2)
  25. 3 Ar RF13.56MHz CCPの2次元構造 / p88 (0050.jp2)
  26. 3.1 CCP電気的正性プラズマの放電構造概説 / p89 (0050.jp2)
  27. 3.2 RFセルフバイアス電圧に関して / p90 (0051.jp2)
  28. 3.3 CCP2次元時間平均構造圧力特性 / p90 (0051.jp2)
  29. 3.4 CCP径方向均一性印加電圧特性 / p99 (0055.jp2)
  30. 3.5 CCP軸方向分布印加電圧特性 / p103 (0057.jp2)
  31. 3.6 圧力減少によるシース厚さの増加について / p105 (0058.jp2)
  32. 3.7 各圧力でのCCP2次元時間分解構造 / p108 (0060.jp2)
  33. 3.8 Ar RF CCP2次元構造へのセルフバイアス電圧の影響 / p122 (0067.jp2)
  34. 3.9 Ar RF CCP2次元構造への絶縁体厚さの影響 / p127 (0069.jp2)
  35. 3.10 本章のまとめ / p137 (0074.jp2)
  36. 4 Ar RF CCP2次元構造への周波数の効果 / p138 (0075.jp2)
  37. 4.1 1Torrにおける消費電力と電子密度の駆動周波数特性 / p139 (0075.jp2)
  38. 4.2 セルフバイアス電圧の駆動周波数特性 / p141 (0076.jp2)
  39. 4.3 1Torrにおける2次元分布の駆動周波数特性 / p144 (0078.jp2)
  40. 4.4 VHF100MHz CCPの特性 / p152 (0082.jp2)
  41. 4.5 0.1Torr以下の圧力での2次元分布への駆動周波数の効果 / p153 (0082.jp2)
  42. 4.6 径方向均一性へのCF₄ガス添加の効果 / p160 (0086.jp2)
  43. 4.7 本章のまとめ / p165 (0088.jp2)
  44. 5 2周波CCPの2次元構造と駆動周波数の効果 / p167 (0089.jp2)
  45. 5.1 背景 / p168 (0090.jp2)
  46. 5.2 2周波駆動CCP実験目的 / p169 (0090.jp2)
  47. 5.3 2周波駆動CCP実験装置 / p169 (0090.jp2)
  48. 5.4 2周波駆動CCP実験条件 / p170 (0091.jp2)
  49. 5.5 低圧力下での2周波駆動CCPの2次元分布 / p170 (0091.jp2)
  50. 5.6 CF₄/Arガスでの径方向均一性 / p177 (0094.jp2)
  51. 5.7 ネット励起レートへの低周波バイアス電圧の影響 / p177 (0094.jp2)
  52. 5.8 2周波駆動CCPの時空間構造 / p184 (0098.jp2)
  53. 5.9 現実のプロセスリアクターでの均一性について / p196 (0104.jp2)
  54. 5.10 駆動周波数の限界 / p196 (0104.jp2)
  55. 5.11 本章のまとめ / p197 (0104.jp2)
  56. 6 結論 / p200 (0106.jp2)
  57. 6.1 Ar RF13.56MHz CCPの2次元構造 / p201 (0106.jp2)
  58. 6.2 Ar RFCCP 2次元構造への周波数の効果 / p201 (0106.jp2)
  59. 6.3 2周波CCPの2次元構造と駆動周波数の効果 / p202 (0107.jp2)
5access

Codes

  • NII Article ID (NAID)
    500000171414
  • NII Author ID (NRID)
    • 8000000171688
  • DOI(NDL)
  • NDLBibID
    • 000000335728
  • Source
    • NDL ONLINE
    • NDL Digital Collections

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