フォトクロミックジアリールエテン含有シロキサンポリマーに関する研究
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著者
書誌事項
- タイトル
-
フォトクロミックジアリールエテン含有シロキサンポリマーに関する研究
- 著者名
-
中島, 久隆
- 著者別名
-
ナカシマ, ヒサタカ
- 学位授与大学
-
九州大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
-
甲第4842号
- 学位授与年月日
-
1999-03-25
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 第2章 ジアリールエテンモノマーの合成 / (0005.jp2)
- 第1節 原料及び分析機器 / p11 (0015.jp2)
- 第2節 メチルジアリールエテンの合成 / p12 (0016.jp2)
- 第3節 メトキシジアリールエテンの合成 / p36 (0040.jp2)
- 第4節 ジアリールエテンメタクリル酸エステル体の合成 / p46 (0050.jp2)
- 第3章 高分子中における光反応量子収率 / p50 (0054.jp2)
- 第1節 測定方法及び装置 / p50 (0054.jp2)
- 第2節 溶液系の光反応 / p53 (0057.jp2)
- 第3節 フィルム系の光反応 / p57 (0061.jp2)
- 第4章 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーの合成とフォトクロミズム / p58 (0062.jp2)
- 第1節 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーの合成 / p58 (0062.jp2)
- 第2節 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーのフォトクロミズム / p65 (0069.jp2)
- 第3節 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーの変換率 / p68 (0072.jp2)
- 第4節 ガラス転移点前後における光反応性 / p72 (0076.jp2)
- 第5節 ポリマーの光反応速度 / p74 (0078.jp2)
- 第6節 ポリマーの量子収率温度依存性 / p81 (0085.jp2)
- 第5章 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーの合成とフォトクロミズム / p88 (0092.jp2)
- 第1節 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーの合成 / p88 (0092.jp2)
- 第2節 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーのフォトクロミズム / p98 (0102.jp2)
- 第3節 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーの変換率 / p106 (0110.jp2)
- 第4節 ガラス転移点前後における光反応性 / p111 (0115.jp2)
- 第5節 ポリマーの光反応速度 / p114 (0118.jp2)
- 第6節 ポリマーの量子収率温度依存性 / p122 (0126.jp2)
- 第6章 結論 / p126 (0130.jp2)
- 参考文献 / p128 (0132.jp2)
- 謝辞 / p131 (0135.jp2)