フォトクロミックジアリールエテン含有シロキサンポリマーに関する研究

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著者

    • 中島, 久隆 ナカシマ, ヒサタカ

書誌事項

タイトル

フォトクロミックジアリールエテン含有シロキサンポリマーに関する研究

著者名

中島, 久隆

著者別名

ナカシマ, ヒサタカ

学位授与大学

九州大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第4842号

学位授与年月日

1999-03-25

注記・抄録

博士論文

目次

  1. 目次 / (0003.jp2)
  2. 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 第2章 ジアリールエテンモノマーの合成 / (0005.jp2)
  4. 第1節 原料及び分析機器 / p11 (0015.jp2)
  5. 第2節 メチルジアリールエテンの合成 / p12 (0016.jp2)
  6. 第3節 メトキシジアリールエテンの合成 / p36 (0040.jp2)
  7. 第4節 ジアリールエテンメタクリル酸エステル体の合成 / p46 (0050.jp2)
  8. 第3章 高分子中における光反応量子収率 / p50 (0054.jp2)
  9. 第1節 測定方法及び装置 / p50 (0054.jp2)
  10. 第2節 溶液系の光反応 / p53 (0057.jp2)
  11. 第3節 フィルム系の光反応 / p57 (0061.jp2)
  12. 第4章 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーの合成とフォトクロミズム / p58 (0062.jp2)
  13. 第1節 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーの合成 / p58 (0062.jp2)
  14. 第2節 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーのフォトクロミズム / p65 (0069.jp2)
  15. 第3節 ジアリールエテン含有炭素系ポリマーの変換率 / p68 (0072.jp2)
  16. 第4節 ガラス転移点前後における光反応性 / p72 (0076.jp2)
  17. 第5節 ポリマーの光反応速度 / p74 (0078.jp2)
  18. 第6節 ポリマーの量子収率温度依存性 / p81 (0085.jp2)
  19. 第5章 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーの合成とフォトクロミズム / p88 (0092.jp2)
  20. 第1節 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーの合成 / p88 (0092.jp2)
  21. 第2節 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーのフォトクロミズム / p98 (0102.jp2)
  22. 第3節 ジアリールエテン含有シロキサンポリマーの変換率 / p106 (0110.jp2)
  23. 第4節 ガラス転移点前後における光反応性 / p111 (0115.jp2)
  24. 第5節 ポリマーの光反応速度 / p114 (0118.jp2)
  25. 第6節 ポリマーの量子収率温度依存性 / p122 (0126.jp2)
  26. 第6章 結論 / p126 (0130.jp2)
  27. 参考文献 / p128 (0132.jp2)
  28. 謝辞 / p131 (0135.jp2)
3アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000171818
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000172092
  • DOI(NDL)
  • NDL書誌ID
    • 000000336132
  • データ提供元
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
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