【12/14(木)17時より】CiNiiの常時SSL化(HTTPS接続)について

表面電子分光法における表面励起に関する研究 ヒョウメン デンシ ブンコウホウ ニ オケル ヒョウメン レイキ ニ カンスル ケンキュウ

この論文をさがす

著者

    • 永富, 隆清 ナガトミ, タカハル

書誌事項

タイトル

表面電子分光法における表面励起に関する研究

タイトル別名

ヒョウメン デンシ ブンコウホウ ニ オケル ヒョウメン レイキ ニ カンスル ケンキュウ

著者名

永富, 隆清

著者別名

ナガトミ, タカハル

学位授与大学

大阪大学

取得学位

博士(工学)

学位授与番号

甲第6561号

学位授与年月日

1998-09-30

注記・抄録

博士論文

14401甲第06561号

博士(工学)

大阪大学

1998-09-30

14155

目次

  1. 目次 / p1 (0003.jp2)
  2. 序論 / p1 (0005.jp2)
  3. 第1章 表面電子分光法と信号電子のエネルギー損失 / p5 (0007.jp2)
  4. 1-1 緒言 / p5 (0007.jp2)
  5. 1-2 表面電子分光法 / p6 (0008.jp2)
  6. 1-3 電子のエネルギー損失 / p10 (0010.jp2)
  7. 1-4 表面電子分光スペクトル解析におけるバックグラウンドの取り扱い / p14 (0012.jp2)
  8. 1-5 表面電子分光法と表面励起 / p16 (0013.jp2)
  9. 1-6 本研究の目的 / p18 (0014.jp2)
  10. 参考文献 / p19 (0014.jp2)
  11. 第2章 REELS及びXPSスペクトル解析 / p21 (0015.jp2)
  12. 2-1 緒言 / p21 (0015.jp2)
  13. 2-2 電子の散乱過程 / p21 (0015.jp2)
  14. 2-3 表面励起過程 / p29 (0019.jp2)
  15. 2-4 Extended Landau Theory / p32 (0021.jp2)
  16. 2-5 REELS-XPSスペクトル解析 / p33 (0021.jp2)
  17. 2-6 モンテカルロシミュレーション / p34 (0022.jp2)
  18. 2-7 REELS-XPSスペクトル解析法とシリコン初期酸化表面 / p35 (0022.jp2)
  19. 2-8 結言 / p36 (0023.jp2)
  20. 参考文献 / p37 (0023.jp2)
  21. 第3章 シリコン表面に対する実効エネルギー損失関数及びXPSソース関数 / p38 (0024.jp2)
  22. 3-1 緒言 / p38 (0024.jp2)
  23. 3-2 REELS-XPS測定装置 / p38 (0024.jp2)
  24. 3-3 清浄アモルファスシリコン表面 / p39 (0024.jp2)
  25. 3-4 清浄Si(111)及び酸素吸着Si(111)表面 / p44 (0027.jp2)
  26. 3-5 シリコン熱酸化膜表面 / p52 (0031.jp2)
  27. 3-6 結言 / p56 (0033.jp2)
  28. 参考文献 / p58 (0034.jp2)
  29. 第4章 酸素吸着アモルファスシリコン表面への応用 / p59 (0034.jp2)
  30. 4-1 緒言 / p59 (0034.jp2)
  31. 4-2 測定装置 / p60 (0035.jp2)
  32. 4-3 実験 / p62 (0036.jp2)
  33. 4-4 実効エネルギー損失関数 / p65 (0037.jp2)
  34. 4-5 酸素吸着に伴う表面プラズモン損失ピークの振る舞いの理論的考察 / p68 (0039.jp2)
  35. 4-6 XPSソース関数 / p71 (0040.jp2)
  36. 4-7 結言 / p75 (0042.jp2)
  37. 参考文献 / p77 (0043.jp2)
  38. 第5章 表面励起によるエネルギー損失の理論的取り扱い / p79 (0044.jp2)
  39. 5-1 緒言 / p79 (0044.jp2)
  40. 5-2 エネルギー損失分光法における電子のエネルギー損失 / p79 (0044.jp2)
  41. 5-3 SRモデルによるDIMFPの導出 / p91 (0050.jp2)
  42. 5-4 結言 / p101 (0055.jp2)
  43. 参考文献 / p103 (0056.jp2)
  44. 総括 / p104 (0057.jp2)
  45. 謝辞 / p106 (0058.jp2)
  46. 発表論文リスト / p108 (0059.jp2)
2アクセス

各種コード

  • NII論文ID(NAID)
    500000171938
  • NII著者ID(NRID)
    • 8000000172212
  • DOI(NDL)
  • 本文言語コード
    • jpn
  • NDL書誌ID
    • 000000336252
  • データ提供元
    • 機関リポジトリ
    • NDL-OPAC
    • NDLデジタルコレクション
ページトップへ