電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)のデジタル技術の応用による機能向上の研究
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著者
書誌事項
- タイトル
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電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)のデジタル技術の応用による機能向上の研究
- 著者名
-
高橋, 秀之
- 著者別名
-
タカハシ, ヒデユキ
- 学位授与大学
-
大阪大学
- 取得学位
-
博士(工学)
- 学位授与番号
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乙第7590号
- 学位授与年月日
-
1998-09-25
注記・抄録
博士論文
目次
- 目次 / p2 (0003.jp2)
- 第1章 序論 / p1 (0005.jp2)
- 1 電子プローブマイクロアナライザー開発の歴史 / p1 (0005.jp2)
- 2 EPMAの基礎と原理 / p1 (0005.jp2)
- 3 システムの構成 / p5 (0007.jp2)
- 4.分析方法 / p10 (0010.jp2)
- 5.他の分析機器及び表面分析 / p16 (0013.jp2)
- 6.本研究の位置づけ / p16 (0013.jp2)
- 第2章 相分析への応用 / p24 (0017.jp2)
- 2.1 はじめに / p24 (0017.jp2)
- 2.2 方法 / p25 (0018.jp2)
- 2.3 結果と考察 / p27 (0019.jp2)
- 2.4 イメージ信号とX線像との散布図分析マップによる微小領域の分布観察 / p31 (0021.jp2)
- 2.5 2元散布図を用いた鉱物年代測定への応用 / p35 (0023.jp2)
- 2.6 相分析による合金相と境界相との相違の観察 / p37 (0024.jp2)
- 2.7 相分析による境界領域におけるマトリックス効果の観察 / p38 (0024.jp2)
- 2.8 まとめ / p38 (0024.jp2)
- Appendix / p41 (0026.jp2)
- 第3章 波長分散型分光器による凹凸試料ならびに薄膜試料の分析 / p44 (0027.jp2)
- 3.1 凹凸試料の分析 / p44 (0027.jp2)
- 3.2 EPMAによる薄膜の厚さ測定 / p58 (0034.jp2)
- 3.3 まとめ / p69 (0040.jp2)
- Appendix 1 / p71 (0041.jp2)
- Appendix 2 / p73 (0042.jp2)
- 第4章 状態分析への機能拡大とその応用 / p77 (0044.jp2)
- 4.1 分光素子とスペクトル解析 / p77 (0044.jp2)
- 4.2 EPMAのサテライト線など波形変化における波形分離法による定量的 評価 / p89 (0050.jp2)
- 4.3 Si化合物のSi-Kβサテライト線の分子軌道法DV-Xα計算による解析 / p97 (0054.jp2)
- 4.4 希土類フッ素化合物のF-Kaサテライト線における化学状態分析 / p101 (0056.jp2)
- 4.5 人工超格子分光素子の開発と超軟X線サテライト線の状態分析への応用 / p110 (0061.jp2)
- 4.6 状態分析の分布観察への応用 / p119 (0065.jp2)
- 4.7 まとめ / p128 (0070.jp2)
- 第5章 EPMAを用いたX線吸収微細構造による局所構造解析の研究 / p132 (0072.jp2)
- 5.1 はじめに / p132 (0072.jp2)
- 5.2 XAFSの原理 / p134 (0073.jp2)
- 5.3 XAFSの応用 / p140 (0076.jp2)
- Appendix / p154 (0083.jp2)
- 第6章 総括 / p159 (0086.jp2)
- 謝辞 / p163 (0088.jp2)
- List of Publication / p165 (0089.jp2)
